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公开(公告)号：CN110106471A
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201910528435.6
申请日：2019-06-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种导流机构、坩埚装置、蒸镀设备及蒸镀方法，其中导流机构包括：收集管，所述收集管为两端开口的管状结构，所述收集管包括第一端部和用于盖设在蒸发源上的第二端部；回收组件，所述回收组件盖设在所述收集管的所述第一端部；导流组件，所述导流组件设置于所述收集管内，所述导流组件的进气口朝向所述第二端部，所述导流组件的出气口朝向所述第一端部，所述导流组件用于将所述蒸发源释放的气体粒子导流至所述回收组件内。这样，通过增设导流机构吸收预设阶段时备用的坩埚装置释放的气体分子，避免释放的气体粒子影响蒸镀工艺的成膜质量。
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公开(公告)号：CN109609909B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201910005585.9
申请日：2019-01-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种蒸镀方法及系统，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的连续蒸镀时间短的问题。本发明蒸镀方法包括：在一个蒸镀制程内，进行第一蒸镀和第二蒸镀；其中，所述第一蒸镀包括，将所述第三蒸镀源关闭，采用所述第一蒸镀源以第一速率向基板蒸镀第一材料，采用所述第二蒸镀源以第二速率向所述基板蒸镀第二材料；所述第二蒸镀包括，将所述第一蒸镀源关闭，采用所述第三蒸镀源以第一速率向所述基板蒸镀第一材料，采用所述第二蒸镀源以第二速率向所述基板蒸镀第二材料；且所述第一速率大于所述第二速率。
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公开(公告)号：CN110106471B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201910528435.6
申请日：2019-06-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种导流机构、坩埚装置、蒸镀设备及蒸镀方法，其中导流机构包括：收集管，所述收集管为两端开口的管状结构，所述收集管包括第一端部和用于盖设在蒸发源上的第二端部；回收组件，所述回收组件盖设在所述收集管的所述第一端部；导流组件，所述导流组件设置于所述收集管内，所述导流组件的进气口朝向所述第二端部，所述导流组件的出气口朝向所述第一端部，所述导流组件用于将所述蒸发源释放的气体粒子导流至所述回收组件内。这样，通过增设导流机构吸收预设阶段时备用的坩埚装置释放的气体分子，避免释放的气体粒子影响蒸镀工艺的成膜质量。
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公开(公告)号：CN109518136A
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201910069733.3
申请日：2019-01-24
申请人： 成都京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 本申请公开了一种蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法，属于显示技术领域。蒸镀结构包括：蒸镀坩埚、喷嘴和浮板，蒸镀坩埚用于盛放蒸镀源材料，蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态；喷嘴设置在蒸镀坩埚的出口处，喷嘴用于向待蒸镀基板表面喷射呈气态的蒸镀源材料；浮板被配置为：漂浮在呈液态的蒸镀源材料的表面，且浮板与蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，浮板具有多个镂空结构，多个镂空结构被配置为：供呈气态的蒸镀源材料通过。本申请提高了在待蒸镀基板上形成的膜层的均一性。本申请用于蒸镀结构和蒸镀系统。
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公开(公告)号：CN109161855A
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201811313344.2
申请日：2018-11-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种蒸镀装置及蒸镀方法，该蒸镀装置包括第一过渡腔、传送腔、蒸镀腔和温控单元；其中，传送腔被配置为导通第一过渡腔与蒸镀腔；蒸镀腔被配置为采用掩膜版对衬底基板进行蒸镀；温控单元被配置为监控在蒸镀腔外部且蒸镀完成后的衬底基板的第一温度，并控制第一过渡腔内的衬底基板至第一温度。通过将第一过渡腔内的衬底基板的温度预先控制为蒸镀所需温度，有效遏制了衬底基板进入蒸镀腔后由于受热形变而产生的相对位移，从而提高了蒸镀过程中的对位精度。
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公开(公告)号：CN109161855B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201811313344.2
申请日：2018-11-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种蒸镀装置及蒸镀方法，该蒸镀装置包括第一过渡腔、传送腔、蒸镀腔和温控单元；其中，传送腔被配置为导通第一过渡腔与蒸镀腔；蒸镀腔被配置为采用掩膜版对衬底基板进行蒸镀；温控单元被配置为监控在蒸镀腔外部且蒸镀完成后的衬底基板的第一温度，并控制第一过渡腔内的衬底基板至第一温度。通过将第一过渡腔内的衬底基板的温度预先控制为蒸镀所需温度，有效遏制了衬底基板进入蒸镀腔后由于受热形变而产生的相对位移，从而提高了蒸镀过程中的对位精度。
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公开(公告)号：CN109518136B
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201910069733.3
申请日：2019-01-24
申请人： 成都京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 本申请公开了一种蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法，属于显示技术领域。蒸镀结构包括：蒸镀坩埚、喷嘴和浮板，蒸镀坩埚用于盛放蒸镀源材料，蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态；喷嘴设置在蒸镀坩埚的出口处，喷嘴用于向待蒸镀基板表面喷射呈气态的蒸镀源材料；浮板被配置为：漂浮在呈液态的蒸镀源材料的表面，且浮板与蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，浮板具有多个镂空结构，多个镂空结构被配置为：供呈气态的蒸镀源材料通过。本申请提高了在待蒸镀基板上形成的膜层的均一性。本申请用于蒸镀结构和蒸镀系统。
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公开(公告)号：CN109609909A
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201910005585.9
申请日：2019-01-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/225 , H01L51/0008 , H01L51/56
摘要： 本发明提供一种蒸镀方法及系统，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的连续蒸镀时间短的问题。本发明蒸镀方法包括：在一个蒸镀制程内，进行第一蒸镀和第二蒸镀；其中，所述第一蒸镀包括，将所述第三蒸镀源关闭，采用所述第一蒸镀源以第一速率向基板蒸镀第一材料，采用所述第二蒸镀源以第二速率向所述基板蒸镀第二材料；所述第二蒸镀包括，将所述第一蒸镀源关闭，采用所述第三蒸镀源以第一速率向所述基板蒸镀第一材料，采用所述第二蒸镀源以第二速率向所述基板蒸镀第二材料；且所述第一速率大于所述第二速率。
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