- 专利标题: 基于纳米图形的紫外量子点发光二极管及制备方法
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申请号: CN201910169569.3申请日: 2019-03-06
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公开(公告)号: CN110112268B公开(公告)日: 2022-04-29
- 发明人: 周小伟 , 王燕丽 , 訾亚丽 , 李培咸 , 许晟瑞 , 马晓华 , 郝跃
- 申请人: 西安电子科技大学
- 申请人地址: 陕西省西安市太白南路2号
- 专利权人: 西安电子科技大学
- 当前专利权人: 西安电子科技大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市太白南路2号
- 代理机构: 陕西电子工业专利中心
- 代理商 王品华; 朱红星
- 主分类号: H01L33/06
- IPC分类号: H01L33/06 ; H01L33/24 ; H01L33/32 ; H01L33/00 ; B82Y40/00
摘要:
本发明公开了一种基于量子点阵列的紫外量子点发光二极管及制备方法,主要解决现有紫外量子点发光二极管可靠性差、效率低和寿命不稳定的问题。其自下而上包括:衬底层、n型AlxGa1‑xN层、AlyGa1‑yN单量子点层、p型AlzGa1‑zN层和电极,该n型AlxGa1‑xN层上设有直径为20‑150nm、高度为2‑35nm的量子点阵列,AlyGa1‑yN单量子点层位于量子点阵列上,以提高量子点发光二极管的可靠性和寿命稳定性。本发明使用氧化硅纳米球阵列为掩模,通过ICP蚀刻技术得到均匀分布的量子点阵列,在量子点阵列上直接生长量子点,提高了器件的可靠性和稳定性,可用于紫外及深紫外发光设备中。
公开/授权文献
- CN110112268A 基于量子点阵列的紫外量子点发光二极管及制备方法 公开/授权日:2019-08-09
IPC分类: