发明公开
- 专利标题: 等离子体处理装置和载置台的制造方法
- 专利标题(英): PLASMA PROCESSING APPARATUS AND MOUNTING TABLE MANUFACTURING METHOD
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申请号: CN201910122590.8申请日: 2019-02-19
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公开(公告)号: CN110197787A公开(公告)日: 2019-09-03
- 发明人: 佐佐木康晴 , 千叶谅 , 永山晃
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇
- 优先权: 2018-032364 2018.02.26 JP
- 主分类号: H01L21/02
- IPC分类号: H01L21/02 ; H01L21/67 ; H01L21/673
摘要:
本发明提供等离子体处理装置和载置台的制造方法。所提供的等离子体处理装置具备:载置台,其具有板状构件和基台,所述板状构件具有用于载置被处理体的载置面以及与所述载置面相对的背面,并且在所述板状构件中形成有贯通所述载置面和所述背面的第一通孔,所述基台具有用于支承所述板状构件的支承面,并且在所述基台形成有与所述第一通孔连通的第二通孔;以及埋入构件,其配置在所述第一通孔和所述第二通孔的内部,其中,所述埋入构件具有配置于所述第一通孔的第一埋入构件和配置于所述第二通孔的第二埋入构件,所述第一埋入构件和所述第二埋入构件不相互固定,所述第一埋入构件在下侧具有宽度比上端部的宽度宽的部分。
公开/授权文献
- CN110197787B 等离子体处理装置和载置台的制造方法 公开/授权日:2024-06-28