发明授权
- 专利标题: 一种均匀对称布置且同步开合的离子源挡板
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申请号: CN201910322666.1申请日: 2019-04-22
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公开(公告)号: CN110223903B公开(公告)日: 2021-07-02
- 发明人: 胡冬冬 , 李娜 , 车东晨 , 陈兆超 , 程实然 , 侯永刚 , 王铖熠 , 许开东
- 申请人: 江苏鲁汶仪器有限公司
- 申请人地址: 江苏省徐州市邳州经济开发区辽河西路8号
- 专利权人: 江苏鲁汶仪器有限公司
- 当前专利权人: 江苏鲁汶仪器股份有限公司
- 当前专利权人地址: 221300 江苏省徐州市邳州市经济开发区辽河西路8号
- 代理机构: 南京经纬专利商标代理有限公司
- 代理商 石艳红
- 主分类号: H01J37/32
- IPC分类号: H01J37/32
摘要:
本发明公开了一种均匀对称布置且同步开合的离子源挡板,包括n块n等分挡板,n≥2;n块n等分挡板大小形状相同,均位于同一个竖向平面内,且以离子源挡板中心点为对称中心,呈均匀对称分布;n块n等分挡板均能在对应驱动机构的作用下,以离子源挡板中心点为圆心,沿径向进行同步往返滑移;当n块n等分挡板向着离子源挡板中心点滑移并拼合后,能将离子源栅网进行完全遮挡;当n块n等分挡板向着背离离子源挡板中心点滑移时,能使离子源栅网无遮挡。本发明能使晶圆的中部和边缘均能同时均匀地接受离子束的轰击,保证挡板在完全脱离离子源栅网之前晶圆的表面接受相同的刻蚀程度,提高了晶圆成品的刻蚀均匀性。
公开/授权文献
- CN110223903A 一种均匀对称布置且同步开合的离子源挡板 公开/授权日:2019-09-10