Invention Publication
- Patent Title: 半导体装置及半导体装置的制造方法
- Patent Title (English): SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
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Application No.: CN201880016444.0Application Date: 2018-02-28
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Publication No.: CN110678989APublication Date: 2020-01-10
- Inventor: 山崎舜平 , 竹内敏彦 , 山出直人 , 藤木宽士 , 森若智昭 , 木村俊介
- Applicant: 株式会社半导体能源研究所
- Applicant Address: 日本神奈川县厚木市
- Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee Address: 日本神奈川县厚木市
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 张桂霞; 李志强
- Priority: 2017-047420 2017.03.13 JP
- International Application: PCT/IB2018/051253 2018.02.28
- International Announcement: WO2018/167591 JA 2018.09.20
- Date entered country: 2019-09-06
- Main IPC: H01L29/786
- IPC: H01L29/786 ; H01L21/28 ; H01L21/8242 ; H01L27/108

Abstract:
提供一种可以实现微型化或高集成化的半导体装置。该半导体装置包括:第一导电体;第一导电体上的第二导电体;覆盖第二导电体的第一绝缘体;第一绝缘体上的第一氧化物;以及第一氧化物上的第二氧化物,其中,在第一氧化物及第一绝缘体中设置有至少与第一导电体的一部分重叠的开口,并且,第二氧化物通过开口与第一导电体电连接。
Public/Granted literature
- CN110678989B 半导体装置及半导体装置的制造方法 Public/Granted day:2024-02-13
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IPC分类: