发明公开
- 专利标题: 三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法
- 专利标题(英): Method for preparing two-dimensional layered material by stripping ternary atomic crystal
-
申请号: CN201810751854.1申请日: 2018-07-10
-
公开(公告)号: CN110699755A公开(公告)日: 2020-01-17
- 发明人: 封伟 , 张鑫 , 王宇 , 赵付来 , 冯奕钰 , 李瑀
- 申请人: 天津大学
- 申请人地址: 天津市南开区卫津路92号
- 专利权人: 天津大学
- 当前专利权人: 天津大学
- 当前专利权人地址: 天津市南开区卫津路92号
- 代理机构: 天津创智天诚知识产权代理事务所
- 代理商 王秀奎
- 主分类号: C30B29/52
- IPC分类号: C30B29/52 ; C30B29/64 ; C30B1/10
摘要:
本发明公开三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,以GaGeLi晶体为前驱体,分散于乙醇中,用氩气脱气后以Teflon胶带密封,超声处理并避免浴缸和液体过热,水冷维持在20—25℃,再离心分离即可得到二维层状半导体材料2D-GaGeLi。其光学带隙与剥离所得层数有关,层数越少,带隙越大。在光电器件、光催化等方面应用有具有较大的潜在性。
公开/授权文献
- CN110699755B 三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法 公开/授权日:2022-04-05
IPC分类: