Invention Grant
- Patent Title: 一种窄带滤光片光谱的调控方法
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Application No.: CN201911146781.4Application Date: 2019-11-21
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Publication No.: CN110837145BPublication Date: 2022-03-29
- Inventor: 姜玉刚 , 陈丹 , 刘华松 , 姜承慧 , 刘丹丹
- Applicant: 天津津航技术物理研究所
- Applicant Address: 天津市东丽区空港经济区中环西路58号
- Assignee: 天津津航技术物理研究所
- Current Assignee: 天津津航技术物理研究所
- Current Assignee Address: 天津市东丽区空港经济区中环西路58号
- Agency: 中国兵器工业集团公司专利中心
- Agent 王雪芬
- Main IPC: G02B5/20
- IPC: G02B5/20 ; G01J3/00 ; G01M11/02

Abstract:
本发明涉及一种窄带滤光片光谱的调控方法,属于光学薄膜技术领域。本发明设计的一种窄带滤光片光谱的调控方法,它通过采用高温热处理的方法,并调整热处理工艺参数,能有效的改变窄带滤光片光谱的波长位置和波形。实施过程中,它通过在K9或石英基底上制备宽截止窄带滤光薄膜,将制备好的滤光片进行热处理,通过改变热处理时间和热处理温度,能有效地调节窄带滤光片的光谱位置和形状。结果表明,该方法能将滤光片的光谱位置平移,调整到满足要求的位置,大大提高窄带滤光片的成品合格率,对于窄带滤光片的制备具有重要的作用。
Public/Granted literature
- CN110837145A 一种窄带滤光片光谱的调控方法 Public/Granted day:2020-02-25
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