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公开(公告)号：CN117305759A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311257771.4
申请日：2023-09-27
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本申请提供一种低水吸收氧化钇薄膜的制备方法，包括以下步骤：蘸取抛光液对基片进行抛光，抛光后蘸取无水乙醇和乙醚混合液将基片表面擦拭干净；将擦拭干净后的基片放入镀膜装置的镀膜腔室内，设置基片温度为200℃‑400℃，并将镀膜腔室抽真空，使镀膜腔室内的压强小于3×10‑3Pa；设置离子源Ar流量在10sccm‑30sccm之间，离子源束压控制为200V‑800V，束流控制在80mA‑150mA以内，时间为5min‑15min；以金属钇作为膜料，以10sccm～80sccm的流量向镀膜腔室充入氧气，保持离子源束压以及束流不变，对基片进行镀膜处理，以得到低水吸收氧化钇薄膜。该方法使用金属氧化沉积技术调控薄膜晶体结构和化学成分，以高能离子轰击提升膜层的致密度，降低膜层的水吸收，降低光学损耗，提升膜层的透过率。
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公开(公告)号：CN109374544B
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201811301037.2
申请日：2018-11-02
申请人： 天津津航技术物理研究所
IPC分类号： G01N21/31 , G01N21/3563 , G01N21/59 , G01N21/55
摘要： 本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种光学介质薄膜含水缺陷深度的表征方法。本发明对于无水层的光学常数，首先从可见光谱段反演出薄膜的色散方程，然后从长波红外光谱反演出薄膜的微结构本征振动导致的色散方程，两个色散方程的叠加表征了薄膜无水结构的光学常数色散；对于含水层的薄膜，将无水薄膜与水按照混合物处理，基于等效介质理论建立含水薄膜的光学常数色散方程。然后从红外透射光谱中反演出无水薄膜与水的比例、水的扩散深度、含有孔隙的无水薄膜厚度、无水薄膜的孔隙率四个参数。通过该方法可以表征出薄膜中的水缺陷深度特性，该方法对于含水缺陷薄膜的膜系设计以及多层膜的制作均有指导意义。
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公开(公告)号：CN106644087B
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201611128964.X
申请日：2016-12-09
申请人： 天津津航技术物理研究所
IPC分类号： G01J5/00
摘要： 本发明属于光谱热辐射率表征领域，具体涉及一种多层光学薄膜光谱热辐射率的计算方法。本发明提供的计算方法具有简单可操作性，对于确定的多层薄膜‑基底‑多层薄膜系统结构，仅需确定基底与薄膜材料的热光系数，就能够完整表达光学多层膜的光谱定向辐射率、定向辐射率、光谱辐射率和积分空间辐射率。采用本方法能够避免直接测量的繁琐和测量仪器的复杂结构设计，具有一定的科学与应用价值。
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公开(公告)号：CN107561614B
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201710780421.4
申请日：2017-09-01
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本发明公开了一种大口径均匀性滤光片的制备方法，属于光学薄膜技术领域，解决由于大口径窄带滤光片对中心波长的敏感程度较高，中心波长微小的漂移均可能会导致滤光片透过率的下降的问题。该制备方法在基底上镀制总膜系的一半，将镀制的二个膜片反方向进行光胶，能够有助于改进大口径窄带滤光片的均匀性。结果表明，该方法将有助于大口径窄带滤光片均匀性的改进，实现大口径均匀的窄带滤光片的制备。
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公开(公告)号：CN107462530A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201710576412.3
申请日：2017-07-14
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本发明涉及一种含氢类金刚石薄膜的全光谱段光学常数表征方法，属于光学薄膜技术领域。本发明从短波吸收区开始计算然后加入振动吸收区特性，有效避免了使用单一介电常数模型无法精确外推光谱区常数的问题。该方法可以直接应用于含氢DLC或者含杂质吸收的DLC薄膜光学常数的测试与表征。
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公开(公告)号：CN107462530B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201710576412.3
申请日：2017-07-14
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本发明涉及一种含氢类金刚石薄膜的全光谱段光学常数表征方法，属于光学薄膜技术领域。本发明从短波吸收区开始计算然后加入振动吸收区特性，有效避免了使用单一介电常数模型无法精确外推光谱区常数的问题。该方法可以直接应用于含氢DLC或者含杂质吸收的DLC薄膜光学常数的测试与表征。
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公开(公告)号：CN110837145A
公开(公告)日：2020-02-25
申请号：CN201911146781.4
申请日：2019-11-21
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本发明涉及一种窄带滤光片光谱的调控方法，属于光学薄膜技术领域。本发明设计的一种窄带滤光片光谱的调控方法，它通过采用高温热处理的方法，并调整热处理工艺参数，能有效的改变窄带滤光片光谱的波长位置和波形。实施过程中，它通过在K9或石英基底上制备宽截止窄带滤光薄膜，将制备好的滤光片进行热处理，通过改变热处理时间和热处理温度，能有效地调节窄带滤光片的光谱位置和形状。结果表明，该方法能将滤光片的光谱位置平移，调整到满足要求的位置，大大提高窄带滤光片的成品合格率，对于窄带滤光片的制备具有重要的作用。
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公开(公告)号：CN109374544A
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201811301037.2
申请日：2018-11-02
申请人： 天津津航技术物理研究所
IPC分类号： G01N21/31 , G01N21/3563 , G01N21/59 , G01N21/55
摘要： 本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种光学介质薄膜含水缺陷深度的表征方法。本发明对于无水层的光学常数，首先从可见光谱段反演出薄膜的色散方程，然后从长波红外光谱反演出薄膜的微结构本征振动导致的色散方程，两个色散方程的叠加表征了薄膜无水结构的光学常数色散；对于含水层的薄膜，将无水薄膜与水按照混合物处理，基于等效介质理论建立含水薄膜的光学常数色散方程。然后从红外透射光谱中反演出无水薄膜与水的比例、水的扩散深度、含有孔隙的无水薄膜厚度、无水薄膜的孔隙率四个参数。通过该方法可以表征出薄膜中的水缺陷深度特性，该方法对于含水缺陷薄膜的膜系设计以及多层膜的制作均有指导意义。
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公开(公告)号：CN106291793B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201610971376.6
申请日：2016-11-04
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本发明公开了一种短波红外窄带滤光片，其特征在于，包括：基板和形成在基板两侧表面上的正面膜系和反面膜系，正面膜系为：A/(HL)4L(HL)8L(HL)8L(HL)41.64H0.64L/S，反面膜系为：A/(0.5HL0.5H)11α(0.5HL0.5H)12β(0.5LH0.5L)7γ(0.5LH0.5L)10ω(0.5LH0.5L)10/S；膜系中的符号含义：A为空气，S为H‑K9L玻璃基底，H为高折射率材料五氧化二钛，L为低折射率材料二氧化硅，α、β、γ和ω分别表示各膜系中心波长与中心波长的倍数。本发明滤光片具有中心波长为1240nm的红外窄带滤光片透过光谱，透射带的上升和下降沿陡度小于0.5％，通带平均透过率达80％，截止带平均透过率小于0.5％，可起到限制光谱范围，抑制背景干扰，提高目标分辨率。
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公开(公告)号：CN107315210A
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201710694575.1
申请日：2017-08-15
申请人： 天津津航技术物理研究所
IPC分类号： G02B5/08
CPC分类号： G02B5/0816
摘要： 本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种具有全向入射角度的消偏振介质薄膜激光反射镜及设计方法。本发明提出的全向消偏振介质薄膜激光反射镜，使用高折射率和低折射率两种薄膜材料交替的组合方式，考虑到入射波长对于折射率的影响，对膜系结构的光学厚度系数矩阵进行多次修正，并经过薄膜设计软件对膜系结构进行全数值优化，最终能够获得入射角0-90°范围内，最小反射率大于99.88％的全向反射薄膜，并且两个偏振的反射率差最大为0.1％，使得该膜系具有较高的应用价值。
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