一种复合功能角度限位保护装置

    公开(公告)号:CN118935188A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202411175151.0

    申请日:2024-08-26

    IPC分类号: F16M11/08 F16M11/04

    摘要: 本申请提供了一种复合功能角度限位保护装置,涉及光电转台设计技术技术领域,俯仰轴能够在电机驱动下相对于俯仰轴框架旋转,限位挡板固定连接在俯仰轴上,光电开关安装于俯仰轴框架上,与限位挡板同侧,限位挡板与光电开关配合,以使当俯仰轴转动角度超出预设范围时,光电开关输出预设电信号,控制装置用于接收光电开关输出的预设电信号,控制装置控制电机制动,止挡组件安装于俯仰轴框架上,与限位挡板同侧,止挡组件与限位挡板配合,以使当俯仰轴转动角度超出预设范围时,对俯仰轴进行限位。本申请提供的复合功能角度限位保护装置,在实现机械限位和电气限位的双重限位的同时装置结构简单、装配方便且占用空间小。

    一种柱面窗口类光学零件外形成形加工装置和方法

    公开(公告)号:CN118905807A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202411180792.5

    申请日:2024-08-27

    发明人: 白庆光

    摘要: 本申请公开一种柱面窗口类光学零件外形成形加工装置和方法,涉及光学零件加工制造技术领域,该装置包括:支撑架,支撑架设置在三轴数控设备的操作平台上;支撑架具有支撑杆;支撑靠体,支撑靠体可转动地设置在支撑杆上,且支撑靠体与支撑杆同轴设置;支撑靠体的外表面形成用于安装多个待加工零件的加工区域;三轴数控设备具有铣磨刀具,其用于对加工区域的所有待加工零件的所需位置进行加工,以形成光学零件成品。本申请设计该加工装置与传统的三轴数控设备配合使用,提高三轴数控设备的使用范围,通用性更强,节省成本,成形加工精确度高。

    一种柱面镜类光学零件的精磨抛光加工装置和方法

    公开(公告)号:CN118905806A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202411180791.0

    申请日:2024-08-27

    发明人: 白庆光

    IPC分类号: B24B13/00 B24B13/005 B24B1/00

    摘要: 本申请公开一种柱面镜类光学零件的精磨抛光加工装置和方法,涉及光学零件精密制造技术领域,该装置包括装置本体,装置本体设置在车床设备上;装置本体的侧壁上沿其周向均布有多个安装槽,用于放置待加工零件;辅助配块,辅助配块设置在相邻两个待加工零件之间,至少用于待加工零件的配盘加工;车床设备具有加工结构,其与三爪卡盘配合使用,用于对待加工零件所需位置进行加工,以得到柱面镜成品。本申请利用辅助配块抵住待加工零件的同时分散部分加工作用力,使得待加工零件加工时受力均匀、稳定,从而提高加工精度,确保成品光学性能良好。

    一种用于亚微米量级光学元件表面疵病检测装置及方法

    公开(公告)号:CN118425178A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410496378.9

    申请日:2024-04-24

    IPC分类号: G01N21/95 G01N21/01

    摘要: 本申请公开一种用于亚微米量级光学元件表面疵病检测装置及方法,涉及光学表面检测技术领域,该装置包括:显微镜,显微镜具有载物台;承载组件,承载组件设置在载物台上;承载组件具备可绕其中心轴线转动的承载面,承载面用于放置被测样品;通过移动载物台以及转动承载面,改变被测样品与显微镜的视场之间的相对位置,从而对被测样品所有区域内的表面疵病检测。避免出现漏检问题,适用多种不同类型的光学元件表面疵病检测。

    一种红外TDI探测器行频调整系统及方法

    公开(公告)号:CN114295224B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202111445265.9

    申请日:2021-11-30

    发明人: 马丰 宋秋冬

    IPC分类号: G01J5/48 G01J5/02

    摘要: 本申请提供一种红外TDI探测器行频调整系统及方法,包括:数据解码模块,配置用于接收外部扫描系统发送的外部数据,并判断其有效时进行解析,得到用于调整计算的第一行频数据;实时计算模块,配置用于接收所述数据解码模块发送的第一行频数据,并判断其在有效调整范围内时进行调整计算,得到可供探测器识别的第二行频数据;TDI探测器时序驱动模块,配置用于接收所述实时计算模块发送的第二行频数据,并驱动探测器作出相应的响应;数据反馈模块,配置用于将探测器响应结果反馈至外部扫描系统。本申请可在成像过程中进行行频调整,并且与外部扫描系统形成闭环链路,有利于效果评估。

    一种光轴检测系统导光装置装校方法

    公开(公告)号:CN114088355B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202111369256.6

    申请日:2021-11-18

    IPC分类号: G01M11/02

    摘要: 本申请公开了一种光轴检测系统导光装置装校方法。包括以下步骤:将第一平行光管与第二平行光管相对放置;利用第二平行光管的分划板接收第一平行光管发出的平行光线;调整第二平行光管,至第二平行光管分划板上的像与分划板中心重合;将导光装置放置在第一平行光管与第二平行光管之间;利用导光装置反射第一平行光管发出的平行光线至第二平行光管的分划板上;调整导光装置,直至第二平行光管分划板上的像与分划板中心重合;紧固调整后的导光装置。本申请利用第一平行光管与第二平行光管调整导光装置的两反射面,使得导光装置的两反射面具备较高的平行度;实现调整导光装置的两反射面平行度的目的,满足测试需求。

    适用于凸台光学零件的倒角工装及倒角方法

    公开(公告)号:CN117444765A

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202311282346.0

    申请日:2023-09-28

    摘要: 本申请公开了适用于凸台光学零件的倒角工装及倒角方法,属于光学零件加工技术领域。其中,倒角工装本体为三棱柱结构;所述倒角工装本体具有三角形的底面和顶面,且所述底面和顶面之间的棱边均与所述底面和顶面的三角形垂直设置,形成对应的三个棱柱侧面;第一固定部开设于所述倒角工装本体的棱柱侧面上。本申请通过倒角工装上的第一固定部对需倒角的凸台零件进行固定,有效避免了人工手持光学零件在倒角机上倒角,或采用常规工装进行倒角的过程中通常存在的施力不均匀、握持零件难度大的问题,也进一步提高了倒角精度、产品的一致性以及合格率。

    一种红外热像仪
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117367599A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202311304584.7

    申请日:2023-10-10

    摘要: 本申请提供一种红外热像仪包括:热像仪本体,热像仪本体内具有第一空腔,热像仪本体的一侧壁开设有第一通孔;第一通孔内设置有光学镜头,光学镜头内包括第一反射镜、第二反射镜和第三反射镜,用于对光路进行折叠,以减小光学镜头的长度;光线从光学镜头的输入端进入,沿第一方向射入第一反射镜,第一反射镜将光线沿第二方向反射到第二反射镜,第二反射镜将光线沿第三方向反射到第三反射镜,第三反射镜将光线沿第一方向反射到光学镜头的输出端;第一空腔内设置有机芯组件,用于接收光学镜头输出的光信号,并输出红外图像。该红外热像仪采用三次光路折叠,有效减小系统长度,减小了系统尺寸,使得中心能量区域损失小,能量探测能力高。

    一种红外窗口的非均匀热辐射特征表征方法

    公开(公告)号:CN117349568A

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202311276853.3

    申请日:2023-09-28

    摘要: 本申请提供一种红外窗口的非均匀热辐射特征表征方法,红外窗口包括双球面基底,双球面基底包括第一曲面L1和第二曲面L2,表征方法包括:建立第二曲面L2上的点在预设方向,预设波长下的发射率计算模型;发射率的计算模型为:ε=(1‑e‑βD)TL2;其中ε为实际的发射率,TL2为第二曲面L2表面内透射率,β为材料吸收系数,D为材料辐射在基底内的预设方向上的累积距离;在第二曲面L2上选取不同的点,利用发射率计算模型计算各点在预设方向,预设波长下的发射率,进而对红外窗口的热辐射特征进行表征。实现了包含双球面基底的红外窗口表面不同位置、不同方向发射率分布的计算,解决了具有表面热辐射非均匀性的红外窗口发射率表征问题。

    一种红外透明导电薄膜掺杂方法

    公开(公告)号:CN114250443B

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202111438600.2

    申请日:2021-11-30

    摘要: 本申请提供有一种红外透明导电薄膜掺杂方法,通过将掺杂材料和薄膜材料蒸发沉积,形成稳定的掺杂材料雾化层和导电薄膜沉积层;薄膜材料蒸发的粒子上升过程中与掺杂材料雾化层中的粒子之间反复碰撞、复合,实现掺杂材料与薄膜材料的大范围掺杂均匀化,最后沉积在待镀膜的基片上,形成红外透明导电薄膜。在蒸发雾化和沉积过程中,采用第一石英晶振仪和第二石英晶振仪分别实时监控掺杂材料生长速率和导电薄膜生长速率。制备的导电薄膜在3.7~4.8μm红外波段范围内保持较高透过性能的同时在2~18GHz雷达波段范围内也具有较好的电磁屏蔽效果,具有较高的实际工程应用价值,而且制备过程工艺简单、效率高、污染少。