发明公开
CN110911401A 半导体装置
审中-实审
- 专利标题: 半导体装置
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申请号: CN201910128015.9申请日: 2019-02-20
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公开(公告)号: CN110911401A公开(公告)日: 2020-03-24
- 发明人: 东和幸 , 香西昌平
- 申请人: 株式会社东芝
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 徐殿军
- 优先权: 2018-173109 2018.09.14 JP
- 主分类号: H01L27/088
- IPC分类号: H01L27/088 ; H01L23/528 ; H01L23/48 ; H01J37/147
摘要:
本发明的实施方式关于半导体装置。实施方式的半导体装置具备:第1半导体层;第2半导体层;第1多层布线层,设置在第1半导体层与第2半导体层之间,具有多个第1导电层;第2多层布线层,设置在第1多层布线层与第2半导体层之间,具有多个第2导电层;第1晶体管,具有第1半导体层中的第1杂质区域;第2晶体管,具有第2半导体层中的第2杂质区域;第1孔,将第1半导体层、第1多层布线层、第2多层布线层及第2半导体层贯通;第2孔,将第1半导体层、第1多层布线层、第2多层布线层及第2半导体层贯通;第1电极,设置在第1多层布线层中;及第2电极,设置在第1多层布线层中,夹着第1孔而与第1电极对置。
公开/授权文献
- CN110911401B 半导体装置 公开/授权日:2023-09-08
IPC分类: