发明公开
- 专利标题: 涂布显影装置和涂布显影方法
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申请号: CN201910954931.8申请日: 2019-10-09
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公开(公告)号: CN111025850A公开(公告)日: 2020-04-17
- 发明人: 中野圭悟 , 高柳康治 , 土山正志
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇
- 优先权: 2018-191170 2018.10.09 JP
- 主分类号: G03F7/16
- IPC分类号: G03F7/16 ; G03F7/26
摘要:
本发明提供一种在多个基板之间进行均匀性高的处理的涂布显影装置和涂布显影方法。该涂布显影装置构成为具备:处理块,其具备上下地层叠并且彼此划分开的多个基板搬送区域;处理模块,其分别设置于多个基板搬送区域;搬送机构,其分别设置于多个基板搬送区域,在搬送块与处理模块之间搬送基板;温度调整模块,其为了调整多个处理模块中的至少一个处理模块中的基板的温度,而调整向该一个处理模块搬送前的该基板的温度,被搬送机构进行温度调整后的该基板的搬出;温度传感器,其检测多个基板搬送区域中的至少一个基板搬送区域的气氛温度;以及温度变更机构,其基于由温度传感器检测出的所述气氛温度来变更温度调整模块中的基板的温度。
公开/授权文献
- CN111025850B 涂布显影装置和涂布显影方法 公开/授权日:2024-09-17
IPC分类: