Invention Grant
CN111026176B 一种高精度自适应的真空度控制系统
失效 - 权利终止
- Patent Title: 一种高精度自适应的真空度控制系统
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Application No.: CN201911313235.5Application Date: 2019-12-19
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Publication No.: CN111026176BPublication Date: 2022-12-09
- Inventor: 李白 , 易欢 , 黄炳修
- Applicant: 北京航天益森风洞工程技术有限公司
- Applicant Address: 北京市丰台区云岗西路17号
- Assignee: 北京航天益森风洞工程技术有限公司
- Current Assignee: 北京航天益森风洞工程技术有限公司
- Current Assignee Address: 北京市丰台区云岗西路17号
- Agency: 中国航天科技专利中心
- Agent 王永芳
- Main IPC: G05D16/20
- IPC: G05D16/20

Abstract:
本发明公开了一种高精度自适应的真空度控制系统,其包括真空室,进气管道,喷管和排气组件,所述排气组件包括彼此相连并同轴配置的可调节收集段,等直段和扩散段,所述排气组件穿过所述真空室壁进行设置,所述可调节收集段位于真空室内,其进气口面积可调,所述扩散段位于真空室外,所述喷管配置于真空室内,经由所述进气管道与真空室外的气源相连,所述喷管与所述排气组件彼此相间隔地同轴配置。本发明结构简单、并且在真空度高的前提下,不仅能够进行简单的真空度调节,还能够自适应稳定在某一所需真空度。
Public/Granted literature
- CN111026176A 一种高精度自适应的真空度控制系统 Public/Granted day:2020-04-17
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