Invention Grant
- Patent Title: 双晶片结合的气密性密封分子光谱单元
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Application No.: CN201880056757.9Application Date: 2018-09-07
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Publication No.: CN111052388BPublication Date: 2023-11-10
- Inventor: A·J·弗吕林 , J·A·赫尔布斯摩 , B·S·库克 , S·J·雅各布斯
- Applicant: 德克萨斯仪器股份有限公司
- Applicant Address: 美国德克萨斯州
- Assignee: 德克萨斯仪器股份有限公司
- Current Assignee: 德克萨斯仪器股份有限公司
- Current Assignee Address: 美国德克萨斯州
- Agency: 北京纪凯知识产权代理有限公司
- Agent 李英
- International Application: PCT/US2018/049943 2018.09.07
- International Announcement: WO2019/051220 EN 2019.03.14
- Date entered country: 2020-03-02
- Main IPC: H10N89/00
- IPC: H10N89/00 ; H01Q17/00

Abstract:
一种方法包括在衬底上形成(202、204、206)氧化物层和金属层。例如,这些层可以包括夹在氧化硅层之间的金属层。然后将非导电结构比如玻璃结合(208)到氧化物层中的一个。然后可以将天线图案化(210)在非导电结构上,并且可以在衬底中形成(212)腔。另一金属层沉积(214)在腔的表面上,并且将圈图案化(216)在金属层中以暴露氧化物层中的一个。在第二衬底上形成(220)另一金属层,并将这两个衬底结合在一起,从而密封该腔。
Public/Granted literature
- CN111052388A 双晶片结合的气密性密封分子光谱单元 Public/Granted day:2020-04-21
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