发明公开
- 专利标题: 基板处理装置和基板处理方法
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申请号: CN201910987885.1申请日: 2019-10-17
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公开(公告)号: CN111081597A公开(公告)日: 2020-04-28
- 发明人: 小杉仁
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 张会华
- 优先权: 2018-197022 2018.10.18 JP
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/02
摘要:
本发明提供基板处理装置和基板处理方法。能够更可靠地抑制微粒的产生。基板处理装置具有:基板保持旋转部,其保持基板并使其旋转;处理液供给喷嘴,其向利用所述基板保持旋转部保持的基板的周缘部供给处理液;以及气体供给喷嘴,其设于俯视时比所述周缘部靠内侧的位置,向所述基板的被供给所述处理液的处理面上呈环状供给气体,所述气体供给喷嘴自与所述处理面垂直的方向朝向相对于所述基板的旋转中心向外方倾斜的方向呈环状供给所述气体。
公开/授权文献
- CN111081597B 基板处理装置和基板处理方法 公开/授权日:2024-07-09
IPC分类: