发明授权
CN1110832C 用于形成导电薄膜的溶液以及制造导电薄膜的方法和用途
失效 - 权利终止
- 专利标题： 用于形成导电薄膜的溶液以及制造导电薄膜的方法和用途
- 专利标题（英）： Solution for forming electroconductive film method for producing the same film and use
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申请号： CN95115808.2申请日： 1995-08-01
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公开(公告)号： CN1110832C公开(公告)日： 2003-06-04
- 发明人: 松田宏 , 藤原良治
- 申请人： 佳能株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 佳能株式会社
- 当前专利权人： 佳能株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 陈季壮
- 优先权： 197134/1994 1994.08.01 JP; 197135/1994 1994.08.01 JP; 209382/1994 1994.08.11 JP; 208484/1995 1995.07.25 JP
- 主分类号： H01J1/30
- IPC分类号： H01J1/30 ; H01J9/02 ; C25D3/52
摘要：
一种用于在衬底上形成导电薄膜的材料由金属和疏水及亲水成分组成。最好是，该材料包括由通式(R1COO)nM(NR2R3R4)表示的金属有机复合物，其中R1代表烷基，R2、R3和R4的每个代表氢原子、烷基或链烯基团，M代表金属元素，n和m中的每个都代表等于或大于1的整数。该材料可以用于制成电子发射器件的导电膜或制成液晶校正膜。
公开/授权文献
- CN1131328A 形成导电薄膜的材料，用其制成导电薄膜的方法以及用途 公开/授权日：1996-09-18