发明公开

处理装置
摘要:
本发明涉及处理装置。提供一种能够减少具有多个加工模块的处理装置的占用面积的技术。本公开的一技术方案的处理装置包括:多个加工模块,其相连地配置;以及装载模块,其用于收容载体,该载体收纳利用所述多个加工模块进行处理的基板,所述多个加工模块均具有:热处理单元,其包含收容多张基板并进行热处理的处理容器;以及气体供给单元,其配置于所述热处理单元的一侧面,并向所述处理容器内供给气体。
公开/授权文献
0/0