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公开(公告)号:CN102751216B
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201210111840.6
申请日:2012-04-16
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/67 , C23C16/44 , C23C16/455
CPC分类号: H01L21/67109 , C23C16/303 , C23C16/45563 , C23C16/46 , H01L21/67017
摘要: 本发明提供热处理装置,其具备:反应管,其沿第一方向延伸;支承体,其收容于上述反应管内,并可沿着上述第一方向多层地支承多张基板;多条气体供给管,它们以沿着上述第一方向隔开间隔地排列的方式设置于上述反应管的侧面,并向上述反应管的内部供给气体;板状部件,其配置于上述反应管内的、上述多条气体供给管的开口端与收容于上述反应管内的上述支承体之间,并设置有与上述多条气体供给管分别对应的多个开口部;以及加热部,其配置于上述反应管的外侧。
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公开(公告)号:CN101207006B
公开(公告)日:2010-11-03
申请号:CN200710159742.9
申请日:2007-12-21
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/673 , F27B5/04 , F27B5/06 , F27B17/00 , C23C16/44
CPC分类号: F27B17/0025
摘要: 本发明涉及一种立式热处理装置,该装置包括:在下部具有炉口的热处理炉;封闭该炉口的盖体;在盖体上通过保温筒对载置的多枚基板(W)以多层的方式保持的基板保持具;通过设置在盖体上的保温筒使基板保持具旋转的旋转机构;和使盖体升降后将基板保持具搬入搬出炉内的升降机构。当一个基板保持具位于炉内时,另一个基板保持具为了基板的移动载置而被载置在载置台上,在载置台与保温筒之间通过搬送机构搬送基板保持具。在保温筒的上部与各个基板保持具的底部设置有在利用搬送机构使基板保持具位于保温筒的正上方的状态下,当利用旋转机构使保温筒旋转规定角度时能够相互卡合固定或者解除卡合固定的卡合固定部与被卡合固定部。
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公开(公告)号:CN111430268B
公开(公告)日:2024-04-09
申请号:CN202010026896.6
申请日:2020-01-10
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/67 , H01L21/677
摘要: 本发明涉及处理装置。提供一种能够减少具有多个加工模块的处理装置的占用面积的技术。本公开的一技术方案的处理装置包括:多个加工模块,其相连地配置;以及装载模块,其用于收容载体,该载体收纳利用所述多个加工模块进行处理的基板,所述多个加工模块均具有:热处理单元,其包含收容多张基板并进行热处理的处理容器;以及气体供给单元,其配置于所述热处理单元的一侧面,并向所述处理容器内供给气体。
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公开(公告)号:CN102751216A
公开(公告)日:2012-10-24
申请号:CN201210111840.6
申请日:2012-04-16
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/67 , C23C16/44 , C23C16/455
CPC分类号: H01L21/67109 , C23C16/303 , C23C16/45563 , C23C16/46 , H01L21/67017
摘要: 本发明提供热处理装置,其具备:反应管,其沿第一方向延伸;支承体,其收容于上述反应管内,并可沿着上述第一方向多层地支承多张基板;多条气体供给管,它们以沿着上述第一方向隔开间隔地排列的方式设置于上述反应管的侧面,并向上述反应管的内部供给气体;板状部件,其配置于上述反应管内的、上述多条气体供给管的开口端与收容于上述反应管内的上述支承体之间,并设置有与上述多条气体供给管分别对应的多个开口部;以及加热部,其配置于上述反应管的外侧。
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公开(公告)号:CN111430268A
公开(公告)日:2020-07-17
申请号:CN202010026896.6
申请日:2020-01-10
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/67 , H01L21/677
摘要: 本发明涉及处理装置。提供一种能够减少具有多个加工模块的处理装置的占用面积的技术。本公开的一技术方案的处理装置包括:多个加工模块,其相连地配置;以及装载模块,其用于收容载体,该载体收纳利用所述多个加工模块进行处理的基板,所述多个加工模块均具有:热处理单元,其包含收容多张基板并进行热处理的处理容器;以及气体供给单元,其配置于所述热处理单元的一侧面,并向所述处理容器内供给气体。
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公开(公告)号:CN105990197A
公开(公告)日:2016-10-05
申请号:CN201610157780.X
申请日:2016-03-18
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/67
摘要: 本发明提供一种基板处理装置。基板处理装置包括:基板保持器具,呈搁板状保持多个基板;处理容器,具有用于收容多个基板以及基板保持器具的内筒、和配置于内筒的外侧的外筒;气体供给部件,与收容于处理容器内的多个基板的被处理面平行地向该被处理面供给处理气体;排气部件,经由气体出口对处理容器内的处理气体进行排气;排气口,设置于内筒的隔着基板保持器具与气体供给部件相对的那一侧的侧壁;整流板,设置于内筒的外周壁或外筒的内周壁的在处理容器的周向上位于排气口和气体出口之间的部分,整流板以从比与基板保持器具的下端相对应的位置靠下方的位置至少朝向上方延伸到与排气口的下端相对应的位置的方式沿着处理容器的铅垂方向设置。
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公开(公告)号:CN101207006A
公开(公告)日:2008-06-25
申请号:CN200710159742.9
申请日:2007-12-21
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/673 , F27B5/04 , F27B5/06 , F27B17/00 , C23C16/44
CPC分类号: F27B17/0025
摘要: 本发明涉及一种立式热处理装置,该装置包括:在下部具有炉口的热处理炉;封闭该炉口的盖体;在盖体上通过保温筒对载置的多枚基板(W)以多层的方式保持的基板保持具;通过设置在盖体上的保温筒使基板保持具旋转的旋转机构;和使盖体升降后将基板保持具搬入搬出炉内的升降机构。当一个基板保持具位于炉内时,另一个基板保持具为了基板的移动载置而被载置在载置台上,在载置台与保温筒之间通过搬送机构搬送基板保持具。在保温筒的上部与各个基板保持具的底部设置有在利用搬送机构使基板保持具位于保温筒的正上方的状态下,当利用旋转机构使保温筒旋转规定角度时能够相互卡合固定或者解除卡合固定的卡合固定部与被卡合固定部。
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公开(公告)号:CN105990197B
公开(公告)日:2020-08-25
申请号:CN201610157780.X
申请日:2016-03-18
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/67
摘要: 本发明提供一种基板处理装置。基板处理装置包括:基板保持器具,呈搁板状保持多个基板;处理容器,具有用于收容多个基板以及基板保持器具的内筒、和配置于内筒的外侧的外筒;气体供给部件,与收容于处理容器内的多个基板的被处理面平行地向该被处理面供给处理气体;排气部件,经由气体出口对处理容器内的处理气体进行排气;排气口,设置于内筒的隔着基板保持器具与气体供给部件相对的那一侧的侧壁;整流板,设置于内筒的外周壁或外筒的内周壁的在处理容器的周向上位于排气口和气体出口之间的部分,整流板以从比与基板保持器具的下端相对应的位置靠下方的位置至少朝向上方延伸到与排气口的下端相对应的位置的方式沿着处理容器的铅垂方向设置。
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公开(公告)号:CN101552185B
公开(公告)日:2013-03-13
申请号:CN200910129251.9
申请日:2009-04-03
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/00 , H01L21/324 , C23C16/00
CPC分类号: H01L21/67109
摘要: 本发明涉及半导体处理用的反应管和热处理装置。隔开间隔以层叠状态收纳多个被处理体并在减压条件下对上述被处理体实施热处理的半导体处理用的反应管通过电绝缘性且耐热性材料一体地形成。该反应管包括:圆筒形的侧壁,其在下端具有用于相对于上述反应管装载及卸载上述被处理体的装载口;和圆形的顶壁,其闭塞上述侧壁的上端并且与上述侧壁的轴方向正交,内表面形成为平面状,上述顶壁在外表面侧的周边区域具有沿着上述侧壁形成的环状槽。
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公开(公告)号:CN101552185A
公开(公告)日:2009-10-07
申请号:CN200910129251.9
申请日:2009-04-03
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/00 , H01L21/324 , C23C16/00
CPC分类号: H01L21/67109
摘要: 本发明涉及半导体处理用的反应管和热处理装置。隔开间隔以层叠状态收纳多个被处理体并在减压条件下对上述被处理体实施热处理的半导体处理用的反应管通过电绝缘性且耐热性材料一体地形成。该反应管包括:圆筒形的侧壁,其在下端具有用于相对于上述反应管装载及卸载上述被处理体的装载口;和圆形的顶壁,其闭塞上述侧壁的上端并且与上述侧壁的轴方向正交,内表面形成为平面状,上述顶壁在外表面侧的周边区域具有沿着上述侧壁形成的环状槽。
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