- 专利标题: 转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法
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申请号: CN201880079579.1申请日: 2018-10-19
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公开(公告)号: CN111480115B公开(公告)日: 2024-04-09
- 发明人: 霜山达也 , 袴田旺弘
- 申请人: 富士胶片株式会社
- 申请人地址: 日本国东京都
- 专利权人: 富士胶片株式会社
- 当前专利权人: 富士胶片株式会社
- 当前专利权人地址: 日本国东京都
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 蒋亭
- 国际申请: PCT/JP2018/038993 2018.10.19
- 国际公布: WO2019/130750 JA 2019.07.04
- 进入国家日期: 2020-06-09
- 主分类号: G03F7/038
- IPC分类号: G03F7/038 ; H05K3/28 ; B32B27/16 ; B32B27/26 ; C08F8/14 ; C08F290/12 ; G03F7/004 ; G03F7/027 ; G06F3/041
摘要:
本发明提供一种可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜,粘性小,且显影液中的耐刮擦性优异的转印薄膜、使用了上述转印薄膜的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。转印薄膜具备临时支承体及感光性层,上述感光性层含有:包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A;自由基聚合性化合物;及光聚合引发剂,上述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量%以上,上述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量%以上,上述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上。#imgabs0#
公开/授权文献
- CN111480115A 转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法 公开/授权日:2020-07-31
IPC分类: