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公开(公告)号：CN111480115B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN201880079579.1
申请日：2018-10-19
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , H05K3/28 , B32B27/16 , B32B27/26 , C08F8/14 , C08F290/12 , G03F7/004 , G03F7/027 , G06F3/041
Abstract: 本发明提供一种可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜，粘性小，且显影液中的耐刮擦性优异的转印薄膜、使用了上述转印薄膜的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。转印薄膜具备临时支承体及感光性层，上述感光性层含有：包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；自由基聚合性化合物；及光聚合引发剂，上述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，上述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，上述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN114026498A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202080045617.9
申请日：2020-06-09
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种临时支承体及保护膜的剥离性优异，使转印后的感光性树脂层固化而成的固化膜的冲压加工性优异的转印膜、层叠体的制造方法及触摸面板的制造方法。转印膜依次具有临时支承体、感光性树脂层及保护膜，使感光性树脂层固化而成的固化膜在120℃下的断裂伸长率为15％以上，临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为50nm以下，保护膜的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为150nm以下。
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公开(公告)号：CN106687865B
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201580049453.6
申请日：2015-09-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 霜山达也
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在将设置于有机膜上的无机膜上的抗蚀剂层剥离去除后的所述有机膜的表面上抗蚀剂残渣少的TFT基板、有机EL显示装置及液晶显示装置的制造方法。本发明的TFT基板的制造方法至少依次包括步骤1：使用由特定的组成a所表示的硬化性组合物，在TFT基板上形成有机膜的步骤；步骤2：在所述有机膜上的至少一部分上形成无机膜的步骤；步骤3：在所述无机膜上形成抗蚀剂层的步骤；步骤4：对所述抗蚀剂层进行曝光及利用水性显影液进行显影的步骤；步骤5：经由经显影的所述抗蚀剂层对所述无机膜进行蚀刻的步骤；以及步骤6：使用由特定的组成b所表示的剥离液组合物将所述抗蚀剂层剥离去除的步骤。
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公开(公告)号：CN105895661B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201610087786.4
申请日：2016-02-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种薄膜晶体管基板的制造方法及其应用，薄膜晶体管基板即使在以剥离液组合物进行处理之后硬化膜(有机膜)的体积电阻率依旧高。本发明的薄膜晶体管基板的制造方法依序包括至少步骤1～步骤6：步骤1：使用特定的硬化性组合物在薄膜晶体管基板上的至少一部分形成有机膜的步骤；步骤2：在有机膜上的至少一部分形成无机膜的步骤；步骤3：在无机膜上形成抗蚀剂层的步骤；步骤4：对抗蚀剂层进行曝光且显影的步骤；步骤5：经由经显影的抗蚀剂层对无机膜进行蚀刻的步骤；步骤6：使用特定的剥离液组合物将抗蚀剂层剥离除去的步骤。
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公开(公告)号：CN103087354B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201310024840.7
申请日：2008-09-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08L1/12 , C08L67/02 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: C09D5/00 , C08J5/18 , C08J2301/10 , C08J2301/12 , C08K5/11 , C08L1/10 , C08L1/12 , C08L1/14 , C08L67/02 , G02B5/3083 , Y10T428/1041 , C08L2666/18 , C08L2666/26
Abstract: 本发明公开了纤维素酰化物膜，其包括纤维素酰化物；和聚酯二醇，该聚酯二醇在其两端各具有一个羟基，基于所述纤维素酰化物的量，所述聚酯二醇的量为5质量%或更多。
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公开(公告)号：CN104272188A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380022515.5
申请日：2013-04-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: H01L21/02118 , C08G18/6229 , C08G18/6254 , C08G18/8022 , C08G18/8025 , C08G18/8029 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/40 , H01L27/3258
Abstract: 本发明提供一种可获得感光度高、透明性高、耐化学品性高、硬化膜与基板的密接性高、耐干式蚀刻性优异、介电常数低的硬化膜的感光性树脂组合物。所述感光性树脂组合物包括：(A)含有满足下述(1)及下述(2)的至少一个的聚合物的聚合物成分，(1)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的残基的构成单元、及(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物，(2)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的残基的构成单元的聚合物、及具有(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物；(B)光酸产生剂；(C)加合物型封闭型聚异氰酸酯化合物；以及(D)溶剂。
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公开(公告)号：CN103293858A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201310061402.8
申请日：2013-02-27
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光度高、体积电阻率及耐溶剂性优异的感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、有机电致发光显示装置以及液晶显示装置。一种正型感光性树脂组合物，其包括：(A)共聚物，具有含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元(a1)、及含有由-NH-CH2-O-R(R为碳数为1～20的烷基)所表示的部分结构的构成单元(a2)；(B)光酸产生剂；以及(D)溶剂。
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公开(公告)号：CN103087354A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201310024840.7
申请日：2008-09-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08L1/12 , C08L67/02 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: C09D5/00 , C08J5/18 , C08J2301/10 , C08J2301/12 , C08K5/11 , C08L1/10 , C08L1/12 , C08L1/14 , C08L67/02 , G02B5/3083 , Y10T428/1041 , C08L2666/18 , C08L2666/26
Abstract: 本发明公开了纤维素酰化物膜，其包括纤维素酰化物；和聚酯二醇，该聚酯二醇在其两端各具有一个羟基，基于所述纤维素酰化物的量，所述聚酯二醇的量为5质量%或更多。
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公开(公告)号：CN102955361A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210293437.X
申请日：2012-08-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/00 , G02F1/1333 , H01L51/52
Abstract: 本发明提供正型感光性树脂组成物、硬化膜的形成方法、硬化膜、液晶显示装置及有机EL显示装置。正型感光性树脂组成物的特征在于含有：(成分A)至少包含(a1)具有以酸分解性基保护酸基而成的残基的结构单元及(a2)具有交联性基的结构单元的共聚物，(成分B)不含具有以酸分解性基保护酸基而成的残基的结构单元、且至少包含(b1)具有酸基的结构单元及(b2)具有交联性基的结构单元的共聚物，(成分C)光酸产生剂，以及(成分D)溶剂。
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公开(公告)号：CN112789166A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201980065641.6
申请日：2019-09-10
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成密合性优异、低雾度膜的转印膜，以及提供一种使用了上述转印膜的固化膜的制造方法、层叠体的制造方法及触摸面板的制造方法。转印膜满足下述(1)及(2)中的至少一个。(1)具有临时支承体和包含聚合性化合物、聚合引发剂及树脂的第一透明层，上述第一透明层含有包含氧化钛、氧化锡的金属氧化物粒子。(2)具有临时支承体、包含聚合性化合物、聚合引发剂及树脂的第一透明层及第二透明层，上述第二透明层含有包含氧化钛、氧化锡的金属氧化物粒子。
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