发明公开
- 专利标题: 一种有源-无源噪声整形逐次逼近ADC
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申请号: CN202010706810.4申请日: 2020-07-21
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公开(公告)号: CN111711452A公开(公告)日: 2020-09-25
- 发明人: 徐卫林 , 翁浩然 , 周茜 , 韦雪明 , 段吉海 , 韦保林
- 申请人: 桂林电子科技大学
- 申请人地址: 广西壮族自治区桂林市七星区金鸡路1号
- 专利权人: 桂林电子科技大学
- 当前专利权人: 桂林电子科技大学
- 当前专利权人地址: 广西壮族自治区桂林市七星区金鸡路1号
- 代理机构: 桂林市持衡专利商标事务所有限公司
- 代理商 陈跃琳
- 主分类号: H03M1/38
- IPC分类号: H03M1/38
摘要:
本发明公开一种有源-无源噪声整形逐次逼近ADC,包括DAC电容阵列DAC1和DAC2、有源-无源噪声整形模块(包括无源积分器PINT1和正反馈有源-无源积分器APINT2)、六输入比较器COMP、逐次逼近逻辑模块SAR、时钟生成模块CKG、基准电压生成模块BGVG。本发明在有源-无源噪声整形模块中使用最简单的MOS晶体管共源级结构,使低增益有源放大器和正反馈相结合,仅消耗几十微瓦便可获得良好的噪声整形特性,能在传统逐次逼近ADC基础上提升有效位数超过5位。该发明可用于低功耗、高精度的模数转换场景,例如生物医学信号采集,高精度仪表设计等领域,具有良好的应用前景。
IPC分类: