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公开(公告)号:CN111711452A
公开(公告)日:2020-09-25
申请号:CN202010706810.4
申请日:2020-07-21
申请人: 桂林电子科技大学
IPC分类号: H03M1/38
摘要: 本发明公开一种有源-无源噪声整形逐次逼近ADC,包括DAC电容阵列DAC1和DAC2、有源-无源噪声整形模块(包括无源积分器PINT1和正反馈有源-无源积分器APINT2)、六输入比较器COMP、逐次逼近逻辑模块SAR、时钟生成模块CKG、基准电压生成模块BGVG。本发明在有源-无源噪声整形模块中使用最简单的MOS晶体管共源级结构,使低增益有源放大器和正反馈相结合,仅消耗几十微瓦便可获得良好的噪声整形特性,能在传统逐次逼近ADC基础上提升有效位数超过5位。该发明可用于低功耗、高精度的模数转换场景,例如生物医学信号采集,高精度仪表设计等领域,具有良好的应用前景。
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公开(公告)号:CN216531251U
公开(公告)日:2022-05-13
申请号:CN202123016513.6
申请日:2021-12-03
申请人: 桂林电子科技大学
摘要: 本实用新型公开一种高线性度低谐波失真伪电阻电路,PMOS管M1的1号端口、PMOS管M2的衬底和偏置电压源V1的正极相连,并形成伪电阻本体的A端口;偏置电压源V1的负极接PMOS管M1的栅极;PMOS管M1的2号端口连接PMOS管M2的1号端口;PMOS管M2的2号端口、PMOS管M1的衬底和偏置电压源V2的正极相连,并形成伪电阻本体的B端口;偏置电压源V2的负极接PMOS管M2的栅极。本实用新型通过对常规对称伪电阻的衬底连接进行修改,将两个管子的衬底分别连接在另一个管子的信号输入端,其基本原理是通过减小PMOS管的过驱动电压的下降速度来提高线性度。
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公开(公告)号:CN212435678U
公开(公告)日:2021-01-29
申请号:CN202021448729.2
申请日:2020-07-21
申请人: 桂林电子科技大学
IPC分类号: H03M1/38
摘要: 本实用新型公开一种有源‑无源噪声整形逐次逼近ADC,包括DAC电容阵列DAC1和DAC2、有源‑无源噪声整形模块(包括无源积分器PINT1和正反馈有源‑无源积分器APINT2)、六输入比较器COMP、逐次逼近逻辑模块SAR、时钟生成模块CKG、基准电压生成模块BGVG。本实用新型在有源‑无源噪声整形模块中使用最简单的MOS晶体管共源级结构,使低增益有源放大器和正反馈相结合,仅消耗几十微瓦便可获得良好的噪声整形特性,能在传统逐次逼近ADC基础上提升有效位数超过5位。该实用新型可用于低功耗、高精度的模数转换场景,例如生物医学信号采集,高精度仪表设计等领域,具有良好的应用前景。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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