本申请涉及一种离子源供气结构及离子源装置，包括：设置在阳极部件周围的气流回路，以及设于所述阳极部件上且与所述气流回路连通的出气口；其中，所述出气口沿所述阳极部件的中部分布；所述气流回路接入外部的工艺气体，将所述工艺气体输送至各个所述出气口，并通过所述出气口从阳极部件中部导出。该技术方案，将工艺气体输送至各个所述出气口并从阳极部件中部导出，使得工艺气体在电离腔中能够得到更加充分的反应，提高了离子源的电离效率，而且避免了工艺气体沉积，减少对磁铁上部的保护器件的腐蚀。