直流阴极中和器
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112908818B

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202110085601.7

    申请日:2021-01-22

    IPC分类号: H01J37/30 H01J37/08

    摘要: 本申请涉及一种直流阴极中和器,包括:电离腔室,阴极靶材,维持极以及磁铁组件;其中,维持极设于电离腔室上部,连接维持电源;阴极靶材设于电离腔室底部,连接电离电源,且阴极靶材与维持极保持绝缘隔离;磁铁组件设于阴极靶材底部,用于在电离腔室产生强磁场;在工作中,电离腔室通入工作气体,磁铁组件在电离腔室的电离区域产生强磁场,电离区域在强磁场和电场的共同作用下对工作气体进行电离产生等离子体;等离子体中的负电子在维持极的作用下,通过设置在电离腔室的电子输出口进行输出;该技术方案,结构简单,维护方便,使用强磁场提高了电离效率;而且阴极靶材可以使用多种金属,可以使用耐高温稀有金属,对产品不产生污染等不利影响。

    调速阀门结构、真空腔室及真空镀膜机

    公开(公告)号:CN116288230A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202211600718.5

    申请日:2022-12-12

    摘要: 本申请涉及一种调速阀门结构、真空腔室及真空镀膜机,调速阀门结构包括:真空密封的阀门腔体,设于阀门腔体内的真空阀板,以及设于阀门腔体外部的驱动机构和间接传动装置;阀门腔体上设有抽气口,其中,抽气口两侧面上设有上连接件和下连接件;上连接件用于与真空腔室密封连接,下连接件用于与分子泵密封连接;驱动机构连接间接传动装置,间接传动装置与真空阀板通过非接触方式连接;驱动机构驱动间接传动装置进行运动,间接传动装置以非接触方式驱动真空阀板进行移动,调整抽气口的开度大小;该技术方案具有更高的真空度调整速度,减少了需要真空密封的部件,降低了整体设备的成本,并提升了真空腔室的真空密封效果。

    离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室

    公开(公告)号:CN113793791A

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN202111083180.0

    申请日:2021-09-15

    摘要: 本申请涉及一种离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室,所述离子源包括:包括设于腔体两侧的阳极和磁场,以及设于腔体前端的栅网;还包括设于腔体后端的中空阴极,以及设置在中空阴极前的电子均匀板;其中,所述中空阴极从腔体后端套入腔体内;所述中空阴极用于向腔体内注入电子束流;所述电子均匀板将所述电子束流均匀分散进入到阳极区域内;所述电子束流中的电子在阳极的电场和磁场的作用下电离,并在所述栅网的电场作用下引出离子束流;采用中空阴极结构为阳极提供离子供体的中空阴极直流源结构,结构轻巧,性能稳定,实现了小束斑、大能量的离子束流输出,并可以控制离子束的能量和停留时间,在离子束修形中具有良好的使用效果。

    等离子体源及其启动方法

    公开(公告)号:CN113764252A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202111081910.3

    申请日:2021-09-15

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本申请涉及一种等离子体源及其启动方法,所述等离子体源包括:射频线圈及其对应的第一电离室,至少一个感应线圈及其对应的第二电离室,以及供气管路;其中,感应线圈串接在射频线圈前端,第一电离室与第二电离室串联连接;供气管路导入气体进入第一电离室,由射频线圈进行电离,未电离的气体进入第二电离室,由感应线圈进行二级电离后,输出等离子体;射频线圈产生磁场对进入第一电离室的气体进行电离,同时感应线圈通过感应射频线圈产生的磁场而产生电感,对进入第二电离室的气体进行电离;该技术方案,实现了多级射频电离效果,极大地提高了电离效率,可以在真空低气压下实现稳定的气体电离,增强了真空沉积过程的有效反应。

    离子源的电源控制方法、系统及离子源装置

    公开(公告)号:CN111933503B

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN202010802515.9

    申请日:2020-08-11

    IPC分类号: H01J27/14 H01J49/10 H01J49/02

    摘要: 本申请涉及一种离子源的电源控制方法、系统及离子源装置,所述方法包括:根据电源系统输出的总电流值确定各个霍尔离子源的分支电流值;在各个所述霍尔离子源和中空阴极运行中,分别检测各个所述霍尔离子源的电流传感器反馈的实际电流值;将各个所述霍尔离子源对应的实际电流值与其设定的分支电流值的进行比对并计算气体流量控制参数;依据所述气体流量控制参数调整输入霍尔离子源的气体流量,以控制相应霍尔离子源的实际电流值与其设定的分支电流值相匹配。本申请实现了对多霍尔离子源工作时电流控制,能够对各个霍尔离子源的电流进行精确分配,优化了电源控制效果,提升了各个霍尔离子源的工作效果。

    夹具盘、试验工件架、真空镀膜机及镀膜工艺试验方法

    公开(公告)号:CN118726931A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202411023781.6

    申请日:2024-07-29

    IPC分类号: C23C14/50

    摘要: 本申请涉及一种夹具盘、试验工件架、真空镀膜机及镀膜工艺试验方法;所述夹具盘包括:底盘,棘轮,上盖,产品安装盘以及曲柄;产品安装盘上以圆形分布方式设有多个放置测试产品的产品安装位;棘轮内置在底盘中,产品安装盘连接在底盘上;上盖设置于产品安装盘上方,且与棘轮连接;上盖上开设有至少一个镂空部位;其中上盖的非镂空区域用于遮挡非镀膜的产品,镂空部位用于露出需要镀膜的产品;曲柄连接在底盘上,曲柄驱动棘轮进行转动并带动所述上盖旋转,对需要镀膜的产品进行切换;该技术方案,可以在真空镀膜机进行镀膜工艺试验中,减少真空腔体的开门次数,提高镀膜工艺试验对比的准确性。

    离子束测量方法、装置、离子束束流测量系统及真空设备

    公开(公告)号:CN117826230A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202311851909.3

    申请日:2023-12-29

    IPC分类号: G01T1/29

    摘要: 本申请涉及一种离子束测量方法、装置、离子束束流测量系统及真空设备;所述方法包括:在对真空设备的离子源输出的离子束进行测量时,根据离子源的空间模型确定测量点序列及其位置参数,并计算将探测装置移动到相应测量点的控制参数,然后根据控制参数依次控制探测装置移动至各个测量点位置测量束流参数,再根据束流参数生成离子源的离子束束流分布图;该技术方案,采用移动式的探测装置对各个位置点进行测量束流参数,相对于法拉第筒阵列测量方式,可以提升测量数据一致性,能够获得准确的性能参数;而且可以根据需求设置测量点数量,可以在空间模型中任意位置选点来测量,适合不同应用场景下的测量需求。

    工件架及真空设备
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117758225A

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202410046480.9

    申请日:2024-01-11

    IPC分类号: C23C14/50 C23C16/458

    摘要: 本申请涉及一种工件架及真空设备,工件架第一转轴第二转轴以及安装结构;安装结构设计为U型结构形状,包括两个侧边支臂和底部平台,每个安装结构上设置有至少一个用于放置工件的工件盘安装在安装结构的底部平台上;在工作时,第一转轴和第二转轴绕旋转轴线转动,使得安装结构在真空设备的真空腔体内进行空间翻转,将工件盘置于不同空间位置在安装结构上设计了平衡装置,对安装结构进行配平使得安装结构在翻转中形成动平衡,从而使得安装结构在翻转中形成动态平衡该技术方案,实现了二维空间调整功能,提升了真空设备的工作效率,减少真空设备在镀膜/刻蚀过程中产生的振动,保持了真空设备工作稳定性。