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公开(公告)号:CN112908818B
公开(公告)日:2023-07-04
申请号:CN202110085601.7
申请日:2021-01-22
申请人: 中山市博顿光电科技有限公司 , 佛山市博顿光电科技有限公司
摘要: 本申请涉及一种直流阴极中和器,包括:电离腔室,阴极靶材,维持极以及磁铁组件;其中,维持极设于电离腔室上部,连接维持电源;阴极靶材设于电离腔室底部,连接电离电源,且阴极靶材与维持极保持绝缘隔离;磁铁组件设于阴极靶材底部,用于在电离腔室产生强磁场;在工作中,电离腔室通入工作气体,磁铁组件在电离腔室的电离区域产生强磁场,电离区域在强磁场和电场的共同作用下对工作气体进行电离产生等离子体;等离子体中的负电子在维持极的作用下,通过设置在电离腔室的电子输出口进行输出;该技术方案,结构简单,维护方便,使用强磁场提高了电离效率;而且阴极靶材可以使用多种金属,可以使用耐高温稀有金属,对产品不产生污染等不利影响。
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公开(公告)号:CN116288230A
公开(公告)日:2023-06-23
申请号:CN202211600718.5
申请日:2022-12-12
申请人: 佛山市博顿光电科技有限公司 , 中山市博顿光电科技有限公司
摘要: 本申请涉及一种调速阀门结构、真空腔室及真空镀膜机,调速阀门结构包括:真空密封的阀门腔体,设于阀门腔体内的真空阀板,以及设于阀门腔体外部的驱动机构和间接传动装置;阀门腔体上设有抽气口,其中,抽气口两侧面上设有上连接件和下连接件;上连接件用于与真空腔室密封连接,下连接件用于与分子泵密封连接;驱动机构连接间接传动装置,间接传动装置与真空阀板通过非接触方式连接;驱动机构驱动间接传动装置进行运动,间接传动装置以非接触方式驱动真空阀板进行移动,调整抽气口的开度大小;该技术方案具有更高的真空度调整速度,减少了需要真空密封的部件,降低了整体设备的成本,并提升了真空腔室的真空密封效果。
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公开(公告)号:CN113897587A
公开(公告)日:2022-01-07
申请号:CN202111152527.2
申请日:2021-09-29
申请人: 佛山市博顿光电科技有限公司 , 中山市博顿光电科技有限公司
摘要: 本申请实施例提供了一种镀膜机的设备监测方法、装置及镀膜机。所述方法包括:获取在镀膜过程中镀膜机腔室内的多媒体数据;根据所述多媒体数据,确定所述镀膜机腔室内的待测机构的状态信息;当检测到所述待测机构的状态信息满足预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息。本申请用以解决现有技术无法及时发现镀膜机腔室内设备机构的异常情况的技术问题。
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公开(公告)号:CN113793791A
公开(公告)日:2021-12-14
申请号:CN202111083180.0
申请日:2021-09-15
申请人: 中山市博顿光电科技有限公司 , 佛山市博顿光电科技有限公司
摘要: 本申请涉及一种离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室,所述离子源包括:包括设于腔体两侧的阳极和磁场,以及设于腔体前端的栅网;还包括设于腔体后端的中空阴极,以及设置在中空阴极前的电子均匀板;其中,所述中空阴极从腔体后端套入腔体内;所述中空阴极用于向腔体内注入电子束流;所述电子均匀板将所述电子束流均匀分散进入到阳极区域内;所述电子束流中的电子在阳极的电场和磁场的作用下电离,并在所述栅网的电场作用下引出离子束流;采用中空阴极结构为阳极提供离子供体的中空阴极直流源结构,结构轻巧,性能稳定,实现了小束斑、大能量的离子束流输出,并可以控制离子束的能量和停留时间,在离子束修形中具有良好的使用效果。
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公开(公告)号:CN113764252A
公开(公告)日:2021-12-07
申请号:CN202111081910.3
申请日:2021-09-15
申请人: 中山市博顿光电科技有限公司 , 佛山市博顿光电科技有限公司
IPC分类号: H01J37/32
摘要: 本申请涉及一种等离子体源及其启动方法,所述等离子体源包括:射频线圈及其对应的第一电离室,至少一个感应线圈及其对应的第二电离室,以及供气管路;其中,感应线圈串接在射频线圈前端,第一电离室与第二电离室串联连接;供气管路导入气体进入第一电离室,由射频线圈进行电离,未电离的气体进入第二电离室,由感应线圈进行二级电离后,输出等离子体;射频线圈产生磁场对进入第一电离室的气体进行电离,同时感应线圈通过感应射频线圈产生的磁场而产生电感,对进入第二电离室的气体进行电离;该技术方案,实现了多级射频电离效果,极大地提高了电离效率,可以在真空低气压下实现稳定的气体电离,增强了真空沉积过程的有效反应。
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公开(公告)号:CN111933503B
公开(公告)日:2021-07-06
申请号:CN202010802515.9
申请日:2020-08-11
申请人: 中山市博顿光电科技有限公司 , 佛山市博顿光电科技有限公司
摘要: 本申请涉及一种离子源的电源控制方法、系统及离子源装置,所述方法包括:根据电源系统输出的总电流值确定各个霍尔离子源的分支电流值;在各个所述霍尔离子源和中空阴极运行中,分别检测各个所述霍尔离子源的电流传感器反馈的实际电流值;将各个所述霍尔离子源对应的实际电流值与其设定的分支电流值的进行比对并计算气体流量控制参数;依据所述气体流量控制参数调整输入霍尔离子源的气体流量,以控制相应霍尔离子源的实际电流值与其设定的分支电流值相匹配。本申请实现了对多霍尔离子源工作时电流控制,能够对各个霍尔离子源的电流进行精确分配,优化了电源控制效果,提升了各个霍尔离子源的工作效果。
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公开(公告)号:CN116288230B
公开(公告)日:2024-10-29
申请号:CN202211600718.5
申请日:2022-12-12
申请人: 佛山市博顿光电科技有限公司 , 中山市博顿光电科技有限公司
摘要: 本申请涉及一种调速阀门结构、真空腔室及真空镀膜机,调速阀门结构包括:真空密封的阀门腔体,设于阀门腔体内的真空阀板,以及设于阀门腔体外部的驱动机构和间接传动装置;阀门腔体上设有抽气口,其中,抽气口两侧面上设有上连接件和下连接件;上连接件用于与真空腔室密封连接,下连接件用于与分子泵密封连接;驱动机构连接间接传动装置,间接传动装置与真空阀板通过非接触方式连接;驱动机构驱动间接传动装置进行运动,间接传动装置以非接触方式驱动真空阀板进行移动,调整抽气口的开度大小;该技术方案具有更高的真空度调整速度,减少了需要真空密封的部件,降低了整体设备的成本,并提升了真空腔室的真空密封效果。
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公开(公告)号:CN113793791B
公开(公告)日:2024-08-09
申请号:CN202111083180.0
申请日:2021-09-15
申请人: 中山市博顿光电科技有限公司 , 佛山市博顿光电科技有限公司
摘要: 本申请涉及一种离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室,所述离子源包括:包括设于腔体两侧的阳极和磁场,以及设于腔体前端的栅网;还包括设于腔体后端的中空阴极,以及设置在中空阴极前的电子均匀板;其中,所述中空阴极从腔体后端套入腔体内;所述中空阴极用于向腔体内注入电子束流;所述电子均匀板将所述电子束流均匀分散进入到阳极区域内;所述电子束流中的电子在阳极的电场和磁场的作用下电离,并在所述栅网的电场作用下引出离子束流;采用中空阴极结构为阳极提供离子供体的中空阴极直流源结构,结构轻巧,性能稳定,实现了小束斑、大能量的离子束流输出,并可以控制离子束的能量和停留时间,在离子束修形中具有良好的使用效果。
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公开(公告)号:CN113846317B
公开(公告)日:2024-06-25
申请号:CN202111125541.3
申请日:2021-09-24
申请人: 中山市博顿光电科技有限公司 , 佛山市博顿光电科技有限公司
IPC分类号: C23C16/505 , C23C16/52 , C23C14/46 , C23C14/54
摘要: 本申请涉及一种电离腔室、射频离子源及其控制方法,所述电离腔室包括:底部和侧壁,所述底部连接供气管道,前端设置为射频离子源的栅网;其中,所述供气管道通入的气体在射频电作用下在所述电离腔室内进行电离产生等离子体;在所述侧壁上还设置有导电材料制成的屏蔽罩,所述屏蔽罩连接电源的正极端;所述屏蔽罩用于在电离腔室中产生由侧壁向中心方向的电场,所述等离子体在所述电场作用下偏移,控制等离子体从所述栅网的出射位置;该技术方案,可以改善等离子体在电离腔室内的分布情况,从而减少等离子体分布不均匀而造成栅网位置刻蚀严重的情况,延长栅网的使用寿命。
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公开(公告)号:CN114318274B
公开(公告)日:2024-06-11
申请号:CN202111652136.7
申请日:2021-12-30
申请人: 佛山市博顿光电科技有限公司 , 中山市博顿光电科技有限公司
摘要: 本申请涉及一种离子束溅射镀膜方法、靶材安装结构及离子束溅射设备,所述方法包括:在靶材背板的安装位置上分别放置多种靶材;其中,所述靶材背板平面以分区形式设置多个靶材安装位置;控制离子源以设定工艺参数输出离子束,轰击所述靶材背板上的靶材进行溅射镀膜;根据镀膜薄膜的参数要求计算所述靶材背板相对于离子源的位移数据;根据所述位移数据控制所述离子源与靶材背板产生平面相对运动,以调整所述离子束轰击各种靶材的比例;该技术方案中,可以实现多种不同靶材材料的蒸发镀膜方案,可以实现材料折射率实现渐变工艺,提高产品光谱特性,具有更好的镀膜效果;而且镀膜过程的可控性高,无需暂停离子源工作,控制逻辑简单,可控性强。
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