发明公开
CN111809233A 一种降低位错的全熔高效铸造多晶生产工艺
无效 - 驳回
- 专利标题: 一种降低位错的全熔高效铸造多晶生产工艺
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申请号: CN202010405571.9申请日: 2020-05-14
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公开(公告)号: CN111809233A公开(公告)日: 2020-10-23
- 发明人: 刘立中 , 王艺澄 , 严东
- 申请人: 江苏高照新能源发展有限公司 , 包头美科硅能源有限公司
- 申请人地址: 江苏省镇江市扬中经济开发区港隆路968号
- 专利权人: 江苏高照新能源发展有限公司,包头美科硅能源有限公司
- 当前专利权人: 江苏高照新能源发展有限公司,包头美科硅能源有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省镇江市扬中经济开发区港隆路968号
- 代理机构: 南京利丰知识产权代理事务所
- 代理商 任立
- 主分类号: C30B28/06
- IPC分类号: C30B28/06 ; C30B29/06
摘要:
本发明公开了一种降低位错的全熔高效铸造多晶生产工艺,(1)装料时,在坩埚底部撒碎多晶,碎多晶上铺装硅料原生多晶及单多晶回收料;(2)采用铸造多晶炉,隔热笼关闭高温熔化完成,以TC2温度快速上升为标志;(3)熔化完成后,5-15分钟内快速提升隔热笼至12-16cm;(4)熔化完成后,30-90分钟内缓慢降低隔热笼至6-12cm;(5)以一定时间步长分阶段缓慢提升隔热笼高度,在晶锭生长中后期,逐渐升温,完成晶体生长过程;(6)经过退火、冷却两个阶段,将晶锭取出再后续加工;本发明多晶晶锭下截断位置晶粒变小,增加晶界密度,良好的吸收位错增值,长晶中后期增加长晶温度,减缓长晶速率,降低晶体中因结晶潜热过多导致的位错增值,提高多晶硅片转换效率。