发明授权
- 专利标题： 用于光刻工艺的辅助部件
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申请号： CN202010806388.X申请日： 2015-03-25
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公开(公告)号： CN111948897B公开(公告)日： 2023-11-03
- 发明人: 黄道旻 , 陈嘉仁 , 李信昌 , 石志聪 , 游信胜 , 陈政宏 , 严涛南
- 申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾新竹
- 专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾新竹
- 代理机构： 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 主分类号： G03F1/24
- IPC分类号： G03F1/24
摘要：
本发明公开了一种具有部分厚度辅助部件的光掩模以及用于制造该光掩模的技术。在示例性实施例中，光掩模包括掩模衬底、设置在掩模衬底上的反射结构以及设置在反射结构上的吸收层。在掩模上限定印刷部件区域和辅助部件区域。吸收层在印刷部件区域中具有第一厚度以及在辅助部件区域中具有不同于第一厚度的第二厚度。在一些这样的实施例中，配置第二厚度使得被辅助部件区域反射的辐射不超过目标的光刻胶的曝光阈值。本发明还涉及用于光刻工艺的辅助部件。
公开/授权文献
- CN111948897A 用于光刻工艺的辅助部件 公开/授权日：2020-11-17
