发明公开

基板处理方法
摘要:
根据利用包括涂覆腔体、曝光腔体、显影腔体及返工腔体的基板处理装置的基板处理方法,能够执行用于向基板上涂覆药液的涂覆工艺。向所述基板上涂覆所述药液的过程中从所述基板上检测到异物质的情况下,能够中断向所述基板上涂覆所述药液。能够将上部存在所述异物质的所述基板从所述涂覆腔体直接移送至所述返工腔体,能够在所述返工腔体内对所述基板执行返工工艺。
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