发明公开
- 专利标题: 一种具有增强出光p型层的氮化物半导体发光二极管
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申请号: CN202010932387.X申请日: 2020-09-08
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公开(公告)号: CN112242465A公开(公告)日: 2021-01-19
- 发明人: 郑畅达 , 付汝起 , 张建立 , 王小兰 , 高江东 , 李丹 , 袁旭
- 申请人: 南昌大学 , 南昌硅基半导体科技有限公司
- 申请人地址: 江西省南昌市红谷滩新区学府大道999号
- 专利权人: 南昌大学,南昌硅基半导体科技有限公司
- 当前专利权人: 南昌大学,南昌硅基半导体科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江西省南昌市红谷滩新区学府大道999号
- 代理机构: 江西省专利事务所
- 代理商 张文
- 主分类号: H01L33/20
- IPC分类号: H01L33/20 ; H01L33/24 ; H01L33/32
摘要:
本发明公开了一种具有增强出光p型层的氮化物半导体发光二极管,依次包括基板,设置于基板之上的n型层,产生六棱锥凹坑构造的准备层,含有六棱锥凹坑的单量子阱或多量子阱结构的发光层和p型层。所述p型层完全填充产生于准备层并贯穿发光层的六棱锥凹坑,同时高于发光层平面之上的厚度介于0nm‑‑30nm之间。此结构既能实现空穴经由六棱锥凹坑侧壁高效率地注入至发光层,同时可有效减少p型层对发光层发出的光的吸收,并减少p型层侧面的出光,从而提升氮化物发光二极管的电光转换效率和正面出光比例。
IPC分类: