发明授权
- 专利标题: 发光二极管外延片及其制备方法
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申请号: CN202010946042.X申请日: 2020-09-10
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公开(公告)号: CN112259650B公开(公告)日: 2021-12-07
- 发明人: 洪威威 , 王倩 , 梅劲 , 董彬忠 , 张奕
- 申请人: 华灿光电(浙江)有限公司
- 申请人地址: 浙江省金华市义乌市苏溪镇苏福路233号
- 专利权人: 华灿光电(浙江)有限公司
- 当前专利权人: 华灿光电(浙江)有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省金华市义乌市苏溪镇苏福路233号
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 吕耀萍
- 主分类号: H01L33/06
- IPC分类号: H01L33/06 ; H01L33/14 ; H01L33/00
摘要:
本发明公开了发光二极管外延片及其制备方法,属于发光二极管制作领域。p型GaN层上具有多个间隔分布的空穴注入槽,且每个空穴注入槽与填满空穴注入槽的GaN空穴注入结构均由p型GaN层延伸至多量子阱层。GaN空穴注入结构可到通道的作用,GaN空穴注入结构越过AlGaN电子阻挡层,将p型GaN层中的空穴直接引导至多量子阱层中。空穴通过GaN空穴注入结构进入多量子阱层时受到阻力,相对穿过AlGaN电子阻挡层进入多量子阱层中的阻力较小。因此更多的空穴可以通过GaN空穴注入结构进入多量子阱层中与电子复合发光。进入多量子阱层中的空穴数量增多,最终得到的发光二极管的发光效率也会提高。
公开/授权文献
- CN112259650A 发光二极管外延片及其制备方法 公开/授权日:2021-01-22