本发明公开了一种用于化学镀或清洗的装置及方法。该装置包括槽体及可脱离地插设于所述槽体中的产品放置架，所述装置具有工作状态，当所述装置在所述工作状态时，所述产品放置架插设在所述槽体中，所述产品放置架的一侧形成第一腔体，所述产品放置架的另一侧形成第二腔体，所述第一腔体和所述第二腔体仅能够通过产品上的通孔连通；所述第一腔体和所述第二腔体中的至少一者和一进液机构连通，至少另一者和一排液机构连通及一真空抽气口连通。本发明针对具有高深宽比的通孔的产品的化学镀及清洗，解决了化学镀液或清洗液难以进入高深宽比的通孔内的难题，提高镀膜的质量。