Invention Grant
- Patent Title: 紫外发光二极管外延片及其制备方法
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Application No.: CN202110084092.6Application Date: 2021-01-21
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Publication No.: CN112420888BPublication Date: 2021-04-23
- Inventor: 刘旺平 , 梅劲 , 张武斌 , 葛永晖 , 刘春杨
- Applicant: 华灿光电(浙江)有限公司
- Applicant Address: 浙江省金华市义乌市苏溪镇苏福路233号
- Assignee: 华灿光电(浙江)有限公司
- Current Assignee: 华灿光电(浙江)有限公司
- Current Assignee Address: 浙江省金华市义乌市苏溪镇苏福路233号
- Agency: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- Agent 徐立
- Main IPC: H01L33/06
- IPC: H01L33/06 ; H01L33/32 ; H01L33/14 ; H01L33/02
Abstract:
本公开提供了一种紫外发光二极管外延片及其制备方法,属于发光二极管技术领域。p型AlGaN层上的SnO2欧姆接触层接近透明且对紫外光的吸收较少,有利于紫外光的正常出射。同时SnO2材料与p型AlGaN层的晶格失配小,在p型AlGaN层上直接生长的SnO2欧姆接触层的缺陷少,减小空穴进入缺陷导致的空位的可能,更多的空穴可以进入GaN/AlGaN多量子阱层进行发光,进一步提高GaN/AlGaN多量子阱层的发光效率。同时SnO2欧姆接触层本身具有较好的导电性,因此在不掺杂p型杂质的前提下,也可以实现空穴的良好传递以及与ITO层、电极之间的良好接触。最终可以大幅提高紫外发光二极管的发光效率。
Public/Granted literature
- CN112420888A 紫外发光二极管外延片及其制备方法 Public/Granted day:2021-02-26
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IPC分类: