发明公开
- 专利标题: 一种超声波水解制备超细二氧化锗的方法
-
申请号: CN202011575309.5申请日: 2020-12-28
-
公开(公告)号: CN112456544A公开(公告)日: 2021-03-09
- 发明人: 崔丁方 , 何兴军 , 彭明清 , 王侃 , 符世继 , 陈知江 , 李恒方 , 子光平 , 缪彦美 , 余江游 , 廖吉伟 , 张明 , 张利生
- 申请人: 云南驰宏国际锗业有限公司
- 申请人地址: 云南省曲靖市翠峰西路南侧、学府路西侧1幢第1-9层、2幢第1-2层
- 专利权人: 云南驰宏国际锗业有限公司
- 当前专利权人: 云南驰宏国际锗业有限公司
- 当前专利权人地址: 云南省曲靖市翠峰西路南侧、学府路西侧1幢第1-9层、2幢第1-2层
- 主分类号: C01G17/02
- IPC分类号: C01G17/02
摘要:
本发明公开了一种超声波水解制备超细二氧化锗的方法,涉及二氧化锗制备技术领域。本发明包括以下步骤:S1:制备悬浮液;S2:超声波水解,开启超声波发生器,水解产生的二氧化锗颗粒和盐酸悬浮于超声场中,首先采用20~30kHz频率的超声波作用于固液介质保持不变的悬浮体,进行一级超声水解,然后采用30~40kHz频率的超声波作用于固液介质保持不变的悬浮体,进行二级超声水解,最后采用40~50kHz频率的超声波作用于固液介质保持不变的悬浮体,进行三级超声水解。本发明在传统水解基础上,增加超声波强化搅拌,通过对粗四氯化锗进行制备悬浮液、超声波水解、过滤、洗涤、烘干一系列工序,最终得到超细的15~20um二氧化锗。
公开/授权文献
- CN112456544B 一种超声波水解制备超细二氧化锗的方法 公开/授权日:2022-09-02
IPC分类: