发明公开
- 专利标题: 一种锗镜片加工过程擦拭辅材中锗的回收方法
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申请号: CN202011333579.5申请日: 2020-11-25
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公开(公告)号: CN112522526A公开(公告)日: 2021-03-19
- 发明人: 崔丁方 , 子光平 , 彭明清 , 崔海燕 , 陈知江 , 何兴军 , 缪彦美 , 廖吉伟 , 朱家义
- 申请人: 云南驰宏国际锗业有限公司
- 申请人地址: 云南省曲靖市翠峰西路南侧、学府路西侧1幢第1-9层、2幢第1-2层
- 专利权人: 云南驰宏国际锗业有限公司
- 当前专利权人: 云南驰宏国际锗业有限公司
- 当前专利权人地址: 云南省曲靖市翠峰西路南侧、学府路西侧1幢第1-9层、2幢第1-2层
- 主分类号: C22B41/00
- IPC分类号: C22B41/00 ; C22B7/00
摘要:
本发明公开了一种锗镜片加工过程擦拭辅材中锗的回收方法,涉及锗回收技术领域。本发明包括以下步骤:S1:深度浸泡沉降,首先将重度吸附锗粉及磨削抛光液不能在反复使用的擦拭辅材放入浸泡槽中,加入清水进行浸泡,得到含锗浸泡液和沥干的擦拭辅材;S2:将热浓缩设备内的含锗浸泡液经热浓缩脱除水分,得到含锗50%以上的锗泥;S3:将S1中捞出的沥干擦拭辅材,分别经干燥箱干燥、高温炉灼烧后,得到含锗30%以上的锗泥。本发明通过将擦拭辅材放入浸泡槽中反复浸泡,较为彻底的将擦拭辅材上附着的锗粉剥离,然后对浸泡液进行热浓缩脱除水分,对擦拭辅材进行干燥箱干燥、高温炉灼烧,实现擦拭辅材中锗的回收。