发明授权
- 专利标题: 一种含有脲二酮基团多异氰酸酯的制备方法
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申请号: CN202011428753.4申请日: 2020-12-07
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公开(公告)号: CN112574388B公开(公告)日: 2022-07-12
- 发明人: 辛光震 , 刘伟 , 朱智诚 , 李海军 , 张晓鹏 , 石滨 , 林成栋 , 路富有 , 丰茂英 , 黎源
- 申请人: 万华化学集团股份有限公司 , 万华化学(宁波)有限公司
- 申请人地址: 山东省烟台市经济技术开发区天山路17号;
- 专利权人: 万华化学集团股份有限公司,万华化学(宁波)有限公司
- 当前专利权人: 万华化学集团股份有限公司,万华化学(宁波)有限公司
- 当前专利权人地址: 山东省烟台市经济技术开发区天山路17号;
- 主分类号: C08G18/79
- IPC分类号: C08G18/79 ; C08G18/09
摘要:
本发明涉及异氰酸酯制备技术领域,公开了一种含有脲二酮基团多异氰酸酯的制备方法,首先将二异氰酸酯单体投入到反应体系中,反应体系中的二异氰酸酯单体在叔膦催化下进行聚合反应制备含有脲二酮基团的多异氰酸酯,当体系中的二异氰酸酯单体的消耗质量占二异氰酸酯单体的总质量的比值达到所需比例后进行终止反应,终止反应中使用环氧化合物作为终止剂进行终止。本发明的制备方法,熟化时间短,终止比较彻底,终止效率高,产品在150‑160℃温度下分解速率慢,产品不易泛黄且色度低。
公开/授权文献
- CN112574388A 一种含有脲二酮基团多异氰酸酯的制备方法 公开/授权日:2021-03-30