发明授权
- 专利标题: 紫外发光二极管的外延片及其制备方法
-
申请号: CN202011489457.5申请日: 2020-12-16
-
公开(公告)号: CN112687773B公开(公告)日: 2022-04-12
- 发明人: 乔楠 , 李昱桦 , 刘旺平 , 刘源
- 申请人: 华灿光电(苏州)有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路28号
- 专利权人: 华灿光电(苏州)有限公司
- 当前专利权人: 京东方华灿光电(苏州)有限公司
- 当前专利权人地址: 215600 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路28号
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 吕耀萍
- 主分类号: H01L33/02
- IPC分类号: H01L33/02 ; H01L33/00
摘要:
本公开提供了一种紫外发光二极管的外延片及其制备方法,属于发光二极管领域。所述外延片包括:衬底和顺次层叠在所述衬底上的低温缓冲层、第一未掺杂AlGaN层、N型半导体层、有源层和P型半导体层,所述N型半导体层包括顺次层叠在所述第一未掺杂AlGaN层上的高掺杂N型层和低掺杂N型层,所述低掺杂N型层包括层叠在所述高掺杂N型层上的第一低掺杂层,所述高掺杂N型层和所述第一低掺杂层均包括交替分布的多个AlGaN层和多个SiN层,所述高掺杂N型层中Si掺杂浓度高于所述低掺杂N型层中Si掺杂浓度。本公开能够提高紫外发光二极管的电性。
公开/授权文献
- CN112687773A 紫外发光二极管的外延片及其制备方法 公开/授权日:2021-04-20
IPC分类: