发明授权
- 专利标题: 一种显示基板及其制备方法
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申请号: CN202110040621.2申请日: 2021-01-13
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公开(公告)号: CN112864203B公开(公告)日: 2024-03-05
- 发明人: 杨鸣 , 王伟 , 鲍建东 , 王玲玲 , 李振 , 秦少杰 , 李岢恒 , 冮明琪 , 刘斌
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 姜春咸; 冯建基
- 主分类号: H10K59/65
- IPC分类号: H10K59/65 ; H10K77/10 ; H10K71/80 ; H10K59/12
摘要:
本发明提供一种显示基板及其制备方法。该显示基板的制备方法,显示基板包括摄像区,摄像区包括第一区和第二区,第一区和第二区相互邻接;制备该方法包括:在非柔性基底一侧依次制备柔性基底、像素电路、发光实现层和封装层;其中,在第一区形成有贯穿柔性基底、像素电路的通孔;在非柔性基底的背离柔性基底的一侧制备剥离光线吸收层,剥离光线吸收层在非柔性基底上的正投影覆盖第二区;从非柔性基底背离柔性基底侧进行剥离光线照射,使位于第一区与位于第二区的发光实现层断开;将非柔性基底与柔性基底进行剥离,位于第一区的发光实现层保留在非柔性基底上。该显示基板制备方法确保了摄像区的光线透过率。
公开/授权文献
- CN112864203A 一种显示基板及其制备方法 公开/授权日:2021-05-28