发明公开
- 专利标题: 半导体器件
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申请号: CN202110079912.2申请日: 2021-01-21
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公开(公告)号: CN112909094A公开(公告)日: 2021-06-04
- 发明人: 葛薇薇
- 申请人: 杰华特微电子(杭州)有限公司
- 申请人地址: 浙江省杭州市西湖区三墩镇振华路298号西港发展中心西4幢9楼901-23室
- 专利权人: 杰华特微电子(杭州)有限公司
- 当前专利权人: 杰华特微电子(杭州)有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市西湖区三墩镇振华路298号西港发展中心西4幢9楼901-23室
- 代理机构: 北京成创同维知识产权代理有限公司
- 代理商 蔡纯; 杨思雨
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L29/06 ; H01L21/336
摘要:
公开了一种半导体器件,包括横向分布在所述半导体器件表面的阱区和漂移区,在阱区和漂移区中分别设置有源端掺杂区和漏端掺杂区,分别形成源端和漏端,栅极结构覆盖在阱区和漂移区之间,场板结构覆盖在漂移区上表面,用于辅助耗尽漂移区,其中,在漂移区上表面的位于场板结构与栅极结构之间的区域中设置有掺杂类型与漂移区的掺杂类型相反的表面掺杂区,该表面掺杂区电引出与场板结构电连接。本发明的半导体器件可使场板结构上表面的电位略低于场板结构下表面的电位,提升了场板结构对漂移区的辅助耗尽效果,提升半导体器件的击穿电压。
公开/授权文献
- CN112909094B 半导体器件 公开/授权日:2022-09-20
IPC分类: