本发明涉及阵列基板及其制备方法和显示装置。所述阵列基板包括基板，基板包括非显示区和显示区；位于非显示区的基板上设置有薄膜晶体管和有机膜层，有机膜层位于薄膜晶体管远离基板的一侧，薄膜晶体管包括栅极、有源层、位于栅极以及有源层之间的栅绝缘层，源漏极、和第一钝化层；所述阵列基板满足以下条件的至少之一：(1)以下结构的至少之一在所述基板上的正投影未延伸至所述显示区：所述有机膜层、所述栅绝缘层以及所述第一钝化层；(2)所述栅绝缘层、所述第一钝化层中的至少之一满足：消光系数小于0.005。由此，本发明通过移除位于显示区中不需要的层状结构，或者通过提高位于显示区的膜层透过率，提高了阵列基板显示区的透过率。