一种离子注入系统，包括离子源，所述离子源具有离子源弧形腔室壳体，其限制所述腔室壳体内的离子的高密度浓度。限定提取孔(126)的提取构件(128)允许离子离开所述弧形腔室。所述提取构件限定了定制的提取孔的形状，以用于修改离子束特征并在整个离子束尺寸范围内产生基本均匀的离子束电流。提取孔构件限定细长隙缝形式的孔，所述细长隙缝具有变化的宽度(W1，W2)。所述提取孔的定制形状包括具有第一宽度尺寸(W1)的中心部分，以及从所述中心部分的相对侧延伸的第一远侧部分和第二远端部分，所述相对的远端部分具有第二宽度尺寸(W2)，所述第二宽度尺寸大于所述中心部分的所述第一宽度尺寸。