公开(公告)号：CN117941024A

公开(公告)日：2024-04-26

申请号：CN202280053614.9

申请日：2022-08-04

申请人： 艾克塞利斯科技公司

发明人： 詹姆斯·德卢卡 ,  德怀特·罗 ,  帕特里克·赫雷斯 ,  阿图尔·古普塔

IPC分类号： H01J37/317 ,  H01J37/147

摘要： 离子注入系统和方法在串联单工件终端站中跨工件注入变化的离子束能量，其中加速/减速级的电极、弯曲电极和/或能量过滤器控制离子束到工件的最终能量或路径。弯曲电极或能量过滤器可以是加速/减速级的一部分，或可以位于下游。扫描装置扫描离子束和/或工件，并且电源向电极提供变化的电偏置信号。控制器基于工件处的所需的离子束能量选择性地改变与离子束和/或工件通过离子束的扫描同时发生的电偏置信号。波形发生器可以提供变化并且使供应至加速/减速级、弯曲电极和/或能量过滤器的电偏置信号同步。

公开(公告)号：CN113169006A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980079403.0

申请日：2019-11-06

申请人： 艾克塞利斯科技公司

发明人： 帕特里克·赫雷斯 ,  丹尼斯·罗比塔尔

IPC分类号： H01J37/08 ,  H01J27/02

摘要： 一种离子注入系统，包括离子源，所述离子源具有离子源弧形腔室壳体，其限制所述腔室壳体内的离子的高密度浓度。限定提取孔(126)的提取构件(128)允许离子离开所述弧形腔室。所述提取构件限定了定制的提取孔的形状，以用于修改离子束特征并在整个离子束尺寸范围内产生基本均匀的离子束电流。提取孔构件限定细长隙缝形式的孔，所述细长隙缝具有变化的宽度(W1，W2)。所述提取孔的定制形状包括具有第一宽度尺寸(W1)的中心部分，以及从所述中心部分的相对侧延伸的第一远侧部分和第二远端部分，所述相对的远端部分具有第二宽度尺寸(W2)，所述第二宽度尺寸大于所述中心部分的所述第一宽度尺寸。