- 专利标题: 可实现光路快速调节测试的双折射式纹影系统及方法
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申请号: CN202110365971.6申请日: 2021-04-06
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公开(公告)号: CN113203705B公开(公告)日: 2023-03-14
- 发明人: 李党娟 , 刘荣明 , 吴慎将 , 王佳 , 苏俊宏 , 程军霞 , 张文斌 , 徐雪
- 申请人: 西安工业大学
- 申请人地址: 陕西省西安市未央区学府中路2号
- 专利权人: 西安工业大学
- 当前专利权人: 西安工业大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市未央区学府中路2号
- 代理机构: 西安新思维专利商标事务所有限公司
- 代理商 黄秦芳
- 主分类号: G01N21/45
- IPC分类号: G01N21/45 ; G01N21/01
摘要:
本发明为一种可实现光路快速调节测试的双折射式纹影系统及方法,其克服了现有技术中存在无法实现纹影装置快速且精确测试的问题,不仅解决了纹影系统的装置调节问题,并且可以直接使用点光源进行纹影实验测试。本发明包括依次设置的十字线光源,“十”字形标定光线与前置可变光阑适配模块,凸透镜一,凹球面镜一,凹球面镜二,凸透镜二,刀口装置和高速摄像相机;凹球面镜一与凹球面镜二之间设置测试对象。“十”字形标定光线与前置可变光阑适配模块包括前置可变光阑,十字线光源发出的“十”字形光线通过前置可变光阑得到“十”字形标定光线;“十”字形标定光线穿过前置可变光阑得到用于纹影实验的点光源。
公开/授权文献
- CN113203705A 可实现光路快速调节测试的双折射式纹影系统及方法 公开/授权日:2021-08-03