本发明适用于光刻胶材料制备技术领域，提供了一种ArF光刻胶中的酸敏单体的制备方法，所述酸敏单体具体为5,5‑二甲基‑4,8‑二氧杂三环[4.2.1.03,7]壬基‑2‑甲基丙烯酸酯。本发明采用5,5‑二甲基‑4,8‑二氧杂三环[4.2.1.03,7]壬基‑2‑醇、甲基丙烯类反应物和碱性催化剂进行反应，使得本申请反应的产率大大得到提高，产率可高达90％以上。同时，本申请以沉淀和重结晶对反应液进行后处理，后处理方法简单快捷、易操作，而且污染较小，得到产物的纯度较高，其纯度可达99.99％。