发明公开
- 专利标题: 等离子体处理装置及等离子体处理方法
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申请号: CN201980087489.1申请日: 2019-12-17
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公开(公告)号: CN113228830A公开(公告)日: 2021-08-06
- 发明人: 舆水地盐 , 久保田绅治
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 任玉敏
- 优先权: 2019-001662 20190109 JP 2019-018833 20190205 JP
- 国际申请: PCT/JP2019/049499 2019.12.17
- 国际公布: WO2020/145051 JA 2020.07.16
- 进入国家日期: 2021-07-01
- 主分类号: H05H1/46
- IPC分类号: H05H1/46 ; H01L21/3065
摘要:
在示例性实施方式所涉及的等离子体处理装置中,脉冲状的负极性的直流电压被周期性地施加到下部电极。规定脉冲状的负极性的直流电压施加到下部电极的周期的频率低于为了生成等离子体而被供给的高频电力的频率。高频电力在周期内的第1部分期间内供给。周期内的第2部分期间的高频电力的功率电平被设定为从第1部分期间的高频电力的功率电平减少的功率电平。
公开/授权文献
- CN113228830B 等离子体处理装置及等离子体处理方法 公开/授权日:2024-10-01