发明公开
- 专利标题: 一种蒸发源设备及其蒸镀方法、蒸镀系统
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申请号: CN202110693618.0申请日: 2021-06-22
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公开(公告)号: CN113265621A公开(公告)日: 2021-08-17
- 发明人: 易平安 , 徐天宇 , 肖昂 , 刘洋 , 贾克飞 , 付佳佳 , 郭雄飞 , 黄秦霏 , 朱伍权 , 沈萌 , 赵希瑾 , 刘祥 , 刘坤龙 , 王亚杰 , 石恺 , 刘雨 , 王聪建 , 赵浪 , 薛洋洋 , 谢伟 , 解冰
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京市铸成律师事务所
- 代理商 王云红; 包莉莉
- 主分类号: C23C14/24
- IPC分类号: C23C14/24 ; C23C14/54
摘要:
本公开实施例提供一种蒸发源装置及其蒸镀方法、蒸镀系统。蒸发源设备,包括:坩埚,用于容纳蒸镀材料;喷嘴,位于坩埚的一侧,喷嘴与坩埚连通;蒸镀材料收集装置,位于坩埚的朝向喷嘴的一侧,蒸镀材料收集装置设置有与喷嘴相匹配的第一开孔,喷嘴贯穿第一开孔,蒸镀材料收集装置至少被配置为延长蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间。采用本公开实施例中的蒸发源设备进行蒸镀过程中,蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间被延长,可以减少不必要的开腔作业,减少材料浪费,提高稼动率,提升产能及良率,有利于待蒸镀基板上沿蒸发源方向成膜的均匀性。
公开/授权文献
- CN113265621B 一种蒸发源设备及其蒸镀方法、蒸镀系统 公开/授权日:2023-11-07
IPC分类: