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公开(公告)号:CN112359324A
公开(公告)日:2021-02-12
申请号:CN202011181339.8
申请日:2020-10-29
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号: C23C14/24
摘要: 本发明公开了一种蒸镀坩埚,涉及蒸镀设备技术领域,能够降低喷嘴喷出蒸气的速率波动,并降低镀膜材料在喷嘴内侧附着并持续生长的可能。所述蒸镀坩埚包括:坩埚本体,坩埚本体包括底壁和环绕底壁设置的侧壁,底壁和侧壁围成具有开口的容纳腔;侧壁靠近容纳腔的表面为第一表面,第一表面包括与底壁平行的支撑面;网板组件,网板组件包括至少一块具有网孔的网板,网板组件抵接于支撑面;喷嘴,喷嘴安装于容纳腔的开口处,且喷嘴具有喷气孔。本发明的蒸镀坩埚用于蒸镀工艺。
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公开(公告)号:CN113265621B
公开(公告)日:2023-11-07
申请号:CN202110693618.0
申请日:2021-06-22
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人: 易平安 , 徐天宇 , 肖昂 , 刘洋 , 贾克飞 , 付佳佳 , 郭雄飞 , 黄秦霏 , 朱伍权 , 沈萌 , 赵希瑾 , 刘祥 , 刘坤龙 , 王亚杰 , 石恺 , 刘雨 , 王聪建 , 赵浪 , 薛洋洋 , 谢伟 , 解冰
摘要: 本公开实施例提供一种蒸发源装置及其蒸镀方法、蒸镀系统。蒸发源设备,包括:坩埚,用于容纳蒸镀材料;喷嘴,位于坩埚的一侧,喷嘴与坩埚连通;蒸镀材料收集装置,位于坩埚的朝向喷嘴的一侧,蒸镀材料收集装置设置有与喷嘴相匹配的第一开孔,喷嘴贯穿第一开孔,蒸镀材料收集装置至少被配置为延长蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间。采用本公开实施例中的蒸发源设备进行蒸镀过程中,蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间被延长,可以减少不必要的开腔作业,减少材料浪费,提高稼动率,提升产能及良率,有利于待蒸镀基板上沿蒸发源方向成膜的均匀性。
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公开(公告)号:CN112359324B
公开(公告)日:2023-02-28
申请号:CN202011181339.8
申请日:2020-10-29
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号: C23C14/24
摘要: 本发明公开了一种蒸镀坩埚,涉及蒸镀设备技术领域,能够降低喷嘴喷出蒸气的速率波动,并降低镀膜材料在喷嘴内侧附着并持续生长的可能。所述蒸镀坩埚包括:坩埚本体,坩埚本体包括底壁和环绕底壁设置的侧壁,底壁和侧壁围成具有开口的容纳腔;侧壁靠近容纳腔的表面为第一表面,第一表面包括与底壁平行的支撑面;网板组件,网板组件包括至少一块具有网孔的网板,网板组件抵接于支撑面;喷嘴,喷嘴安装于容纳腔的开口处,且喷嘴具有喷气孔。本发明的蒸镀坩埚用于蒸镀工艺。
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公开(公告)号:CN113265621A
公开(公告)日:2021-08-17
申请号:CN202110693618.0
申请日:2021-06-22
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人: 易平安 , 徐天宇 , 肖昂 , 刘洋 , 贾克飞 , 付佳佳 , 郭雄飞 , 黄秦霏 , 朱伍权 , 沈萌 , 赵希瑾 , 刘祥 , 刘坤龙 , 王亚杰 , 石恺 , 刘雨 , 王聪建 , 赵浪 , 薛洋洋 , 谢伟 , 解冰
摘要: 本公开实施例提供一种蒸发源装置及其蒸镀方法、蒸镀系统。蒸发源设备,包括:坩埚,用于容纳蒸镀材料;喷嘴,位于坩埚的一侧,喷嘴与坩埚连通;蒸镀材料收集装置,位于坩埚的朝向喷嘴的一侧,蒸镀材料收集装置设置有与喷嘴相匹配的第一开孔,喷嘴贯穿第一开孔,蒸镀材料收集装置至少被配置为延长蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间。采用本公开实施例中的蒸发源设备进行蒸镀过程中,蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间被延长,可以减少不必要的开腔作业,减少材料浪费,提高稼动率,提升产能及良率,有利于待蒸镀基板上沿蒸发源方向成膜的均匀性。
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公开(公告)号:CN215947389U
公开(公告)日:2022-03-04
申请号:CN202121395202.2
申请日:2021-06-22
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人: 易平安 , 徐天宇 , 肖昂 , 刘洋 , 贾克飞 , 付佳佳 , 郭雄飞 , 黄秦霏 , 朱伍权 , 沈萌 , 赵希瑾 , 刘祥 , 刘坤龙 , 王亚杰 , 石恺 , 刘雨 , 王聪建 , 赵浪 , 薛洋洋 , 谢伟 , 解冰
摘要: 本公开实施例提供一种蒸发源装置、蒸镀系统。蒸发源设备,包括:坩埚,用于容纳蒸镀材料;喷嘴,位于坩埚的一侧,喷嘴与坩埚连通;蒸镀材料收集装置,位于坩埚的朝向喷嘴的一侧,蒸镀材料收集装置设置有与喷嘴相匹配的第一开孔,喷嘴贯穿第一开孔,蒸镀材料收集装置至少被配置为延长蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间。采用本公开实施例中的蒸发源设备进行蒸镀过程中,蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间被延长,可以减少不必要的开腔作业,减少材料浪费,提高稼动率,提升产能及良率,有利于待蒸镀基板上沿蒸发源方向成膜的均匀性。
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公开(公告)号:CN216473450U
公开(公告)日:2022-05-10
申请号:CN202121165477.7
申请日:2021-05-27
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号: C23C14/26
摘要: 本公开涉及一种蒸发源的加热装置及蒸发源,包括:套筒,具有内壁、外壁、顶板和底板;支撑环,设于内壁和外壁之间,且环绕于内壁外,将套筒分割成第一加热腔和第二加热腔;电热丝,包括依次沿套筒的周向串联的多个第一电热单元和第二电热单元,相邻的第一电热单元之间设置有一个第二电热单元;第一电热单元和第二电热单元均包括两个沿套筒的轴向延伸的延伸段和连接两个延伸段的连接段,第一电热单元的延伸段延伸至第二加热腔,连接段位于第一加热腔,第二电热单元的延伸段延伸至第一加热腔,连接段位于第二加热腔;导电体,设置于支撑环上,连接第一电热单元的延伸段和第二电热单元的延伸段;驱动装置,与支撑环连接并驱动支撑环沿套筒轴向运动。
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