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公开(公告)号：CN109161855A
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201811313344.2
申请日：2018-11-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种蒸镀装置及蒸镀方法，该蒸镀装置包括第一过渡腔、传送腔、蒸镀腔和温控单元；其中，传送腔被配置为导通第一过渡腔与蒸镀腔；蒸镀腔被配置为采用掩膜版对衬底基板进行蒸镀；温控单元被配置为监控在蒸镀腔外部且蒸镀完成后的衬底基板的第一温度，并控制第一过渡腔内的衬底基板至第一温度。通过将第一过渡腔内的衬底基板的温度预先控制为蒸镀所需温度，有效遏制了衬底基板进入蒸镀腔后由于受热形变而产生的相对位移，从而提高了蒸镀过程中的对位精度。
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公开(公告)号：CN112359324A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN202011181339.8
申请日：2020-10-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 本发明公开了一种蒸镀坩埚，涉及蒸镀设备技术领域，能够降低喷嘴喷出蒸气的速率波动，并降低镀膜材料在喷嘴内侧附着并持续生长的可能。所述蒸镀坩埚包括：坩埚本体，坩埚本体包括底壁和环绕底壁设置的侧壁，底壁和侧壁围成具有开口的容纳腔；侧壁靠近容纳腔的表面为第一表面，第一表面包括与底壁平行的支撑面；网板组件，网板组件包括至少一块具有网孔的网板，网板组件抵接于支撑面；喷嘴，喷嘴安装于容纳腔的开口处，且喷嘴具有喷气孔。本发明的蒸镀坩埚用于蒸镀工艺。
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公开(公告)号：CN118434245A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202410501440.9
申请日：2024-04-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请提供了一种蒸镀设备、方法及显示面板制备方法，涉及显示面板制备技术领域。该蒸镀设备包括中央控制器与真空腔室，真空腔室内设置有移动机构、第一蒸镀源以及置放有待蒸镀面板的置放台。移动机构设置有第二蒸镀源，第一蒸镀源、置放台间隔设置于第二蒸镀源的一侧，中央控制器在接收到蒸镀指令后，控制移动机构带动第二蒸镀源移动并经过第一蒸镀源的一侧，以使第一蒸镀源在第二蒸镀源的蒸镀平面沉积有机材料；控制移动机构带动沉积有有机材料的第二蒸镀源移动至正对置放台，且第二蒸镀源与置放台上的待蒸镀面板之间的距离小于20mm；控制第二蒸镀源的蒸镀平面发热，以在待蒸镀面板的第一电极的远离衬底基板的一侧蒸镀有机材料层。
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公开(公告)号：CN113265621B
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202110693618.0
申请日：2021-06-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 易平安 , 徐天宇 , 肖昂 , 刘洋 , 贾克飞 , 付佳佳 , 郭雄飞 , 黄秦霏 , 朱伍权 , 沈萌 , 赵希瑾 , 刘祥 , 刘坤龙 , 王亚杰 , 石恺 , 刘雨 , 王聪建 , 赵浪 , 薛洋洋 , 谢伟 , 解冰
摘要： 本公开实施例提供一种蒸发源装置及其蒸镀方法、蒸镀系统。蒸发源设备，包括：坩埚，用于容纳蒸镀材料；喷嘴，位于坩埚的一侧，喷嘴与坩埚连通；蒸镀材料收集装置，位于坩埚的朝向喷嘴的一侧，蒸镀材料收集装置设置有与喷嘴相匹配的第一开孔，喷嘴贯穿第一开孔，蒸镀材料收集装置至少被配置为延长蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间。采用本公开实施例中的蒸发源设备进行蒸镀过程中，蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间被延长，可以减少不必要的开腔作业，减少材料浪费，提高稼动率，提升产能及良率，有利于待蒸镀基板上沿蒸发源方向成膜的均匀性。
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公开(公告)号：CN112359324B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202011181339.8
申请日：2020-10-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 本发明公开了一种蒸镀坩埚，涉及蒸镀设备技术领域，能够降低喷嘴喷出蒸气的速率波动，并降低镀膜材料在喷嘴内侧附着并持续生长的可能。所述蒸镀坩埚包括：坩埚本体，坩埚本体包括底壁和环绕底壁设置的侧壁，底壁和侧壁围成具有开口的容纳腔；侧壁靠近容纳腔的表面为第一表面，第一表面包括与底壁平行的支撑面；网板组件，网板组件包括至少一块具有网孔的网板，网板组件抵接于支撑面；喷嘴，喷嘴安装于容纳腔的开口处，且喷嘴具有喷气孔。本发明的蒸镀坩埚用于蒸镀工艺。
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公开(公告)号：CN113265621A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110693618.0
申请日：2021-06-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 易平安 , 徐天宇 , 肖昂 , 刘洋 , 贾克飞 , 付佳佳 , 郭雄飞 , 黄秦霏 , 朱伍权 , 沈萌 , 赵希瑾 , 刘祥 , 刘坤龙 , 王亚杰 , 石恺 , 刘雨 , 王聪建 , 赵浪 , 薛洋洋 , 谢伟 , 解冰
摘要： 本公开实施例提供一种蒸发源装置及其蒸镀方法、蒸镀系统。蒸发源设备，包括：坩埚，用于容纳蒸镀材料；喷嘴，位于坩埚的一侧，喷嘴与坩埚连通；蒸镀材料收集装置，位于坩埚的朝向喷嘴的一侧，蒸镀材料收集装置设置有与喷嘴相匹配的第一开孔，喷嘴贯穿第一开孔，蒸镀材料收集装置至少被配置为延长蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间。采用本公开实施例中的蒸发源设备进行蒸镀过程中，蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间被延长，可以减少不必要的开腔作业，减少材料浪费，提高稼动率，提升产能及良率，有利于待蒸镀基板上沿蒸发源方向成膜的均匀性。
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公开(公告)号：CN109161855B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201811313344.2
申请日：2018-11-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种蒸镀装置及蒸镀方法，该蒸镀装置包括第一过渡腔、传送腔、蒸镀腔和温控单元；其中，传送腔被配置为导通第一过渡腔与蒸镀腔；蒸镀腔被配置为采用掩膜版对衬底基板进行蒸镀；温控单元被配置为监控在蒸镀腔外部且蒸镀完成后的衬底基板的第一温度，并控制第一过渡腔内的衬底基板至第一温度。通过将第一过渡腔内的衬底基板的温度预先控制为蒸镀所需温度，有效遏制了衬底基板进入蒸镀腔后由于受热形变而产生的相对位移，从而提高了蒸镀过程中的对位精度。
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公开(公告)号：CN110499492A
公开(公告)日：2019-11-26
申请号：CN201910886093.5
申请日：2019-09-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种蒸镀装置及其蒸镀方法。该蒸镀方法用于蒸镀有机发光材料，包括蒸镀源，蒸镀源包括容纳有机发光材料的坩埚，设置于坩埚顶部的喷嘴和设置于坩埚底部的加热部，喷嘴用于使气化后的有机发光材料输出；加热部用于加热坩埚底部，以使有机发光材料气化，还包括热量调节机构，热量调节机构设置于加热部的背离坩埚的一侧，用于自动调节自身的开口率，以调节其对加热部热量的反射率。该蒸镀装置能够通过对热量调节机构自身开口率的自动调节，实现对加热部热量反射率的自动调节，从而确保加热部对坩埚底部的加热均匀，进而保证了蒸镀膜厚的均匀性。
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公开(公告)号：CN110031781A
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201910425102.0
申请日：2019-05-21
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G01R33/10
摘要： 本发明公开了一种检测治具及其检测方法，通过设置具有沿第一方向延伸的第一导轨的支撑框架与沿第二方向延伸的至少一个滑动导轨，并使滑动导轨设置于第一导轨上且滑动导轨位于同一水平面，这样将多个磁力检测探头设置于滑动导轨上，使各磁力检测探头位于同一高度，以使各磁力检测探头在采集同一高度处的磁隔板的磁感应强度，降低不同磁力检测探头采集到的磁感应强度的误差。通过磁力处理单元获取各磁力检测探头采集到的磁感应强度，并计算磁感应强度与基准磁感应强度之间的磁感应强度差值；在至少一个磁感应强度差值不满足预设磁感应强度差值范围时，确定磁隔板的磁场分布未均匀，可以提高磁隔板的磁场是否均匀分布的结果的准确性。
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公开(公告)号：CN215947389U
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202121395202.2
申请日：2021-06-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人： 易平安 , 徐天宇 , 肖昂 , 刘洋 , 贾克飞 , 付佳佳 , 郭雄飞 , 黄秦霏 , 朱伍权 , 沈萌 , 赵希瑾 , 刘祥 , 刘坤龙 , 王亚杰 , 石恺 , 刘雨 , 王聪建 , 赵浪 , 薛洋洋 , 谢伟 , 解冰
摘要： 本公开实施例提供一种蒸发源装置、蒸镀系统。蒸发源设备，包括：坩埚，用于容纳蒸镀材料；喷嘴，位于坩埚的一侧，喷嘴与坩埚连通；蒸镀材料收集装置，位于坩埚的朝向喷嘴的一侧，蒸镀材料收集装置设置有与喷嘴相匹配的第一开孔，喷嘴贯穿第一开孔，蒸镀材料收集装置至少被配置为延长蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间。采用本公开实施例中的蒸发源设备进行蒸镀过程中，蒸镀材料堆积并堵塞喷嘴的时间被延长，可以减少不必要的开腔作业，减少材料浪费，提高稼动率，提升产能及良率，有利于待蒸镀基板上沿蒸发源方向成膜的均匀性。
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