发明公开
- 专利标题: 一种兼容性ITO蚀刻液及制备方法
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申请号: CN202110708889.9申请日: 2021-06-25
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公开(公告)号: CN113322072A公开(公告)日: 2021-08-31
- 发明人: 戈烨铭 , 何珂 , 汤晓春
- 申请人: 江阴润玛电子材料股份有限公司
- 申请人地址: 江苏省无锡市江阴市周庄镇欧洲工业园区
- 专利权人: 江阴润玛电子材料股份有限公司
- 当前专利权人: 江阴润玛电子材料股份有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省无锡市江阴市周庄镇欧洲工业园区
- 代理机构: 江阴市扬子专利代理事务所
- 代理商 苏玲
- 主分类号: C09K13/08
- IPC分类号: C09K13/08 ; C09K13/04 ; C09K13/06
摘要:
本发明涉及一种兼容性ITO蚀刻液及制备方法,其蚀刻液的原料按重量百分比计算,包括硝酸10%~30%、硫酸10%~20%、金属盐1%~10%、铵盐0.5%‑3%,余量为纯水;依次加入硝酸、纯水、金属盐、铵盐后充分搅拌、混合均匀,再往混合均匀的硝酸、纯水、金属盐、铵盐的混合物中缓慢加入硫酸,充分搅拌混合均匀得到兼容性ITO蚀刻液。本发明的兼容性ITO蚀刻液适用于不同厚度的ITO膜层,且反应温和稳定,蚀刻精度高。针对不同厚度的膜层,只需调整蚀刻时间即可达到蚀刻的目的,无需更换蚀刻液成分以及调整蚀刻液成分含量。
公开/授权文献
- CN113322072B 一种兼容性ITO蚀刻液及制备方法 公开/授权日:2022-06-03