发明公开
- 专利标题： 一种膜厚测量方法和化学机械抛光设备
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申请号： CN202110895311.9申请日： 2021-08-05
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公开(公告)号： CN113471094A公开(公告)日： 2021-10-01
- 发明人: 王成鑫 , 王同庆 , 田芳馨 , 侯映红 , 路新春
- 申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
- 申请人地址： 北京市海淀区清华园1号;
- 专利权人： 清华大学,华海清科股份有限公司
- 当前专利权人： 清华大学,华海清科股份有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区清华园1号;
- 主分类号： H01L21/66
- IPC分类号： H01L21/66 ; H01L21/67 ; H01L21/306
摘要：
本发明提供了一种膜厚测量方法和化学机械抛光设备，其中，方法包括：获取膜厚测量装置距金属薄膜的距离和金属薄膜的材质；根据所述距离和材质，确定相应的标定曲线，所述标定曲线用于表征膜厚测量装置的输出信号与膜厚之间的映射关系；实时获取所述膜厚测量装置的输出信号；根据所述标定曲线和所述输出信号，得到当前的金属薄膜的膜厚。
IPC分类:
