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公开(公告)号：CN110549240B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201910881051.2
申请日：2019-09-18
申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种终点检测方法和化学机械抛光装置，其中方法包括：获取抛光监测模块采集的测量值；利用所述测量值组成用于表征基板表面膜层随时间变化的时间序列数据线；采用拉依达准则获取所述时间序列数据线的拐点；根据所述拐点出现的时间确定抛光终点。本发明提高了终点检测的准确性。
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公开(公告)号：CN115464556B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202211115522.7
申请日：2022-09-14
申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC分类号： B24B49/10 , B24B37/013 , B24B37/10 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B37/005
摘要： 本发明公开了一种金属膜厚测量方法和化学机械抛光设备，其中方法包括：利用电涡流传感器测量晶圆表面的金属薄膜的厚度，所述电涡流传感器包括依次叠放的检测线圈、激励线圈和补偿线圈；获取所述电涡流传感器的输出电压得到特征值，所述特征值等于输出电压的实部与虚部的比值，所述特征值与被测金属膜厚呈线性关系；根据所述特征值确定被测金属膜厚。
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公开(公告)号：CN114473843B
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202111658914.3
申请日：2021-12-30
申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC分类号： B24B37/005 , B24B37/013 , B24B37/04 , B24B37/34 , B24B49/10
摘要： 本发明公开了一种金属膜厚测量方法和化学机械抛光设备，其中方法包括：根据待测的金属薄膜的材质，确定膜厚测量装置在该材质下的标定关系，其中，所述标定关系用于表征K值与金属膜厚的映射关系，所述K值用于表征所述膜厚测量装置的输出信号的虚部与实部的比值；使用所述膜厚测量装置探测所述待测的金属薄膜，采集所述膜厚测量装置的输出信号并计算K值；根据计算的K值和所述标定关系，确定所述待测的金属薄膜的膜厚。
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公开(公告)号：CN114473843A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202111658914.3
申请日：2021-12-30
申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC分类号： B24B37/005 , B24B37/013 , B24B37/04 , B24B37/34 , B24B49/10
摘要： 本发明公开了一种金属膜厚测量方法和化学机械抛光设备，其中方法包括：根据待测的金属薄膜的材质，确定膜厚测量装置在该材质下的标定关系，其中，所述标定关系用于表征K值与金属膜厚的映射关系，所述K值用于表征所述膜厚测量装置的输出信号的虚部与实部的比值；使用所述膜厚测量装置探测所述待测的金属薄膜，采集所述膜厚测量装置的输出信号并计算K值；根据计算的K值和所述标定关系，确定所述待测的金属薄膜的膜厚。
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公开(公告)号：CN110509178B
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN201910873451.9
申请日：2019-09-17
申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC分类号： B24B37/005 , B24B37/013 , B24B49/12
摘要： 本发明提供了一种用于半导体基板的化学机械抛光方法、装置，其中装置包括：抛光盘，其覆盖有用于对基板进行抛光的抛光垫；承载头，用于保持基板并将基板按压在所述抛光垫上；光学传感器，用于对基板表面进行检测以得到光学测量值；控制模块，用于利用光学传感器进行检测以得到与基板表面的材料分布相关的光学测量值，并根据基板表面不同区域对应的光学测量值变化判断抛光是否有异常。本发明实现了抛光均匀性的监测。
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公开(公告)号：CN110044249B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201910365388.8
申请日：2019-04-30
申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC分类号： G01B7/06 , B24B37/005 , B24B37/04
摘要： 本发明适用于化学机械抛光技术领域，提供了一种膜厚测量方法、系统及化学机械抛光装置，其中方法包括：获取膜厚传感器的输出信号与晶圆膜厚的映射关系；利用所述映射关系，将所述膜厚传感器在线测量时输出的信号值转换为膜厚值。实现了快速而准确的在线膜厚测量。
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公开(公告)号：CN113959326A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202111506801.1
申请日：2021-12-10
申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC分类号： G01B7/06
摘要： 本发明公开了一种能够防止金属污染的金属膜厚测量装置，包括：电涡流传感器，其包括磁芯和线圈，线圈沿磁芯的周向缠绕在磁芯的外周壁上，电涡流传感器还包括电磁屏蔽壳，电磁屏蔽壳的芯层由金属材料制成，并且表面涂覆有非金属材料层以防止金属离子污染；前置信号处理模块，与电涡流传感器连接，用于对电涡流传感器输入正弦激励信号，并通过电涡流传感器采集与金属膜厚相关的电压信号；数据采集处理模块，与前置信号处理模块连接，用于接收前置信号处理模块输出的电压信号将其转换为数字信号，并根据预存的厚度标定表将数字信号转换为对应的膜厚值；通讯模块，用于实现数据采集处理模块与上位机之间的通讯。
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公开(公告)号：CN113471094A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110895311.9
申请日：2021-08-05
申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/67 , H01L21/306
摘要： 本发明提供了一种膜厚测量方法和化学机械抛光设备，其中，方法包括：获取膜厚测量装置距金属薄膜的距离和金属薄膜的材质；根据所述距离和材质，确定相应的标定曲线，所述标定曲线用于表征膜厚测量装置的输出信号与膜厚之间的映射关系；实时获取所述膜厚测量装置的输出信号；根据所述标定曲线和所述输出信号，得到当前的金属薄膜的膜厚。
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公开(公告)号：CN112729096A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN202011620335.5
申请日：2020-12-30
申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC分类号： G01B7/06
摘要： 本发明公开了一种用于化学机械抛光的金属膜厚测量装置，包括：电涡流传感器，其包括磁芯和线圈，所述线圈沿所述磁芯的周向缠绕在所述磁芯的外周壁上；前置信号处理模块，与所述电涡流传感器连接，用于对所述电涡流传感器输入固定频率的正弦激励信号，并通过所述电涡流传感器采集与金属膜厚相关的电压信号；数据采集处理模块，与所述前置信号处理模块连接，用于接收所述前置信号处理模块输出的所述电压信号将其转换为数字信号，并根据预存的厚度标定表将所述数字信号转换为对应的膜厚值；通讯模块，用于实现所述数据采集处理模块与上位机之间的通讯。
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公开(公告)号：CN218884874U
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202222430128.4
申请日：2022-09-14
申请人： 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC分类号： G01B7/06
摘要： 本实用新型公开了一种电涡流传感器、膜厚测量装置和化学机械抛光设备，其中，电涡流传感器包括依次叠放的检测线圈、激励线圈和补偿线圈，所述激励线圈位于检测线圈和补偿线圈之间，所述检测线圈的安装位置靠近抛光盘上表面，所述检测线圈、激励线圈和补偿线圈的水平截面均为矩形，并且，激励线圈的水平截面面积小于检测线圈的水平截面面积，检测线圈与补偿线圈的水平截面面积相同。
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