发明授权
- 专利标题: 缺陷点的修补方法、阵列基板和显示面板
-
申请号: CN202111044072.2申请日: 2021-09-07
-
公开(公告)号: CN113725155B公开(公告)日: 2023-07-25
- 发明人: 杨夕岚
- 申请人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
- 专利权人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- 当前专利权人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
- 代理机构: 深圳紫藤知识产权代理有限公司
- 代理商 官建红
- 主分类号: H01L21/768
- IPC分类号: H01L21/768 ; H01L27/12
摘要:
本申请公开了一种缺陷点的修补方法、阵列基板和显示面板,缺陷点的修补方法包括:提供一待修补结构,待修补结构包括依次层叠设置的导电层和绝缘层,导电层具有一表面,表面位于导电层靠近绝缘层的一侧,对绝缘层进行处理形成通孔,通孔贯穿绝缘层以暴露表面,在绝缘层以及导电层上形成修复层,修复层与表面连接。通过去除导电层上的绝缘层,使得绝缘层具有通孔,从而使得修复层可以通过通孔与表面连接,从而改善了修复层与导电层的接触效果,从而提高器件的性能。
公开/授权文献
- CN113725155A 缺陷点的修补方法、阵列基板和显示面板 公开/授权日:2021-11-30
IPC分类: